[實(shí)用新型]直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201720261727.4
• 申請(qǐng)日: 2017-03-17
• 公開（公告）號(hào): CN206652950U
• 公開（公告）日: 2017-11-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄒黎;鄒雪;袁禮劍;鄒旭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東三尺企業(yè)管理咨詢有限公司
• 主分類號(hào): B22D11/11
• 分類號(hào): B22D11/11;B22D11/06
• 代理公司: 濰坊博強(qiáng)專利代理有限公司37244
• 代理人: 張麗麗

1.直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置，包括盛裝有高溫鐵水的噴嘴包，所述噴嘴包的鋼液噴嘴下方安裝有高速旋轉(zhuǎn)的冷卻銅輥，所述冷卻銅輥包括圓筒狀輥體，所述輥體的兩端固定安裝有導(dǎo)電板，所述冷卻銅輥內(nèi)設(shè)置有冷卻腔，所述冷卻腔內(nèi)填充有冷卻液，所述冷卻腔連通有循環(huán)冷卻系統(tǒng)，其特征在于：所述冷卻銅輥兩側(cè)的導(dǎo)電板上分別固定安裝有一個(gè)導(dǎo)電環(huán)，每個(gè)所述導(dǎo)電環(huán)電連接有一個(gè)電刷，所述電刷連接有直流電源。

2.如權(quán)利要求1所述的直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置，其特征在于：所述電刷設(shè)置于所述冷卻銅輥的噴帶熔潭的下部，且自鋼液噴嘴的熔潭位置沿噴帶方向旋轉(zhuǎn)-45°至+45°角。

3.如權(quán)利要求1所述的直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置，其特征在于：所述電刷為石墨電刷。

4.如權(quán)利要求1所述的直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置，其特征在于：所述導(dǎo)電環(huán)為石墨導(dǎo)電環(huán)、銅導(dǎo)電環(huán)或鐵導(dǎo)電環(huán)。

5.如權(quán)利要求1所述的直流磁場(chǎng)改變非晶噴帶磁疇取向的裝置，其特征在于：位于所述冷卻銅輥兩側(cè)的所述導(dǎo)電板的中央分別設(shè)置有冷卻液出口和冷卻液進(jìn)口，所述冷卻液出口和所述冷卻液進(jìn)口之間安裝有所述循環(huán)冷卻系統(tǒng)。