[實用新型]研磨墊及化學機械研磨裝置有效
| 申請號： | 201720255456.1 | 申請日： | 2017-03-15 |
| 公開（公告）號： | CN206567983U | 公開（公告）日： | 2017-10-20 |
| 發明（設計）人： | 譚玉榮 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（天津）有限公司;中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李時云 |
| 地址： | 300385 天*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 化學 機械 裝置 | ||
1.一種研磨墊，用于化學機械研磨，其特征在于，包括：
研磨墊本體，所述研磨墊本體的上表面用于與一待研磨晶圓的正面接觸以實現化學機械研磨；
多個凹槽，所述凹槽設置于所述研磨墊本體的上表面，且多個所述凹槽之間相互連通。
2.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，多個所述凹槽均勻設置于所述研磨墊本體的上表面。
3.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述凹槽的橫截面為圓形、三角形或四邊形。
4.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，多個所述凹槽的面積及深度均相等。
5.如權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，多個所述凹槽之間通過溝渠相互連通。
6.如權利要求5所述的研磨墊，其特征在于，所述溝渠的深度小于等于所述凹槽的深度。
7.一種化學機械研磨裝置，包括：研磨臺，固定在所述研磨臺上的研磨墊，以及研磨頭，所述研磨頭的端面用于與所述研磨墊配合使用研磨晶圓，其特征在于，所述研磨墊包括：
研磨墊本體，所述研磨墊本體的上表面用于與一待研磨晶圓的正面接觸以實現化學機械研磨；
多個凹槽，所述凹槽設置于所述研磨墊本體的上表面，且多個所述凹槽之間相互連通。
8.如權利要求7所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，多個所述凹槽均勻設置于所述研磨墊本體的上表面。
9.如權利要求7所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述凹槽的橫截面為圓形、三角形或四邊形。
10.如權利要求7所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，多個所述凹槽的面積及深度均相等。
11.如權利要求7所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，多個所述凹槽之間通過溝渠相互連通。
12.如權利要求11所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述溝渠的深度小于等于所述凹槽的深度。
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