[實(shí)用新型]一種起重吸盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720254006.0 | 申請日: | 2017-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN206538085U | 公開(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓永超 | 申請(專利權(quán))人: | 韓永超 |
| 主分類號: | B66C1/02 | 分類號: | B66C1/02;B66C1/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 453400 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 起重 吸盤 | ||
1.一種起重吸盤,其特征在于:所述起重吸盤包括承載基座、定位桿、調(diào)節(jié)柱、電磁體、真空吸盤及負(fù)壓泵,所述的承載基座為橫截面呈矩形的平面板狀結(jié)構(gòu),其上表面設(shè)鉤環(huán),所述的鉤環(huán)至少一個(gè),并通過鉤環(huán)與起吊設(shè)備連接,所述的承載基座下表面設(shè)電磁體、真空吸盤,所述的電磁體、真空吸盤均嵌于座下表面內(nèi),并與承載座下表面平齊分布,其中所述的電磁體和真空吸盤均至少一個(gè)并通過滑軌與承載基座滑動(dòng)連接,各電磁體、真空吸盤均環(huán)繞承載基座軸線均布,且各電磁體、真空吸盤間相互間隔分布,所述的調(diào)節(jié)柱至少兩個(gè),嵌于承載基座上表面并與承載基座上表面平行分布,所述的調(diào)節(jié)柱軸線與承載基座軸線垂直分布,并環(huán)繞承載基座軸線均布,且所述的調(diào)節(jié)柱前端面超出承載基座側(cè)表面5—30厘米,并與定位桿側(cè)表面連接,所述的定位桿與調(diào)節(jié)柱間相互垂直分布,所述的負(fù)壓泵至少一個(gè),嵌于承載基座側(cè)表面內(nèi)并與各真空吸盤相互連通,所述的定位桿包括桿體、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、承載鉤及驅(qū)動(dòng)滑軌,所述的桿體至少一段,且各桿體間均同軸分布,所述的桿體內(nèi)側(cè)面上設(shè)至少一條驅(qū)動(dòng)滑軌,并通過驅(qū)動(dòng)滑軌與調(diào)節(jié)柱前端端面滑動(dòng)連接,且所述的驅(qū)動(dòng)滑軌與桿體軸線平行分布,所述的桿體側(cè)表面上另均布若干電磁體,且桿體上的電磁體軸線與承載基座軸線相互垂直分布,所述的承載鉤為斷面呈“L”型的槽狀結(jié)構(gòu),所述的承載鉤上端面通過升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與桿體下端面連接,且所述的承載鉤與桿體間同軸分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種起重吸盤,其特征在于:所述的調(diào)節(jié)柱和升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均為液壓缸、氣壓、絲杠結(jié)構(gòu)中的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種起重吸盤,其特征在于:所述的承載基座上均布若干減重孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種起重吸盤,其特征在于:所述的鉤環(huán)為一個(gè)時(shí),則鉤環(huán)與承載基座同軸分布,所述鉤環(huán)為兩個(gè)或兩個(gè)以上時(shí),則各鉤環(huán)均環(huán)繞承載基座軸線均布。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種起重吸盤,其特征在于:所述承載基座下表面的電磁體、真空吸盤總面積為承載基座下表面總面積的70%—90%,其中真空吸盤總面積為電磁體、真空吸盤總面積的50%—80%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種起重吸盤,其特征在于:所述的負(fù)壓泵與真空吸盤間通過電磁控制閥相互連通。
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