[實用新型]具有薄膜圖案的基板有效
| 申請號： | 201720250611.0 | 申請日： | 2017-03-15 |
| 公開（公告）號： | CN206627757U | 公開（公告）日： | 2017-11-10 |
| 發明（設計）人： | 許銘案 | 申請（專利權）人： | 許銘案 |
| 主分類號： | G03F1/68 | 分類號： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產權代理有限公司11228 | 代理人： | 毛廣杰 |
| 地址： | 中國臺灣苗栗*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 薄膜 圖案 | ||
【權利要求書】：
1.一種具有薄膜圖案的基板，其特征在于，包含：
一基板；
至少一薄膜圖案層，配置于該基板上；及
一周邊圖案層，配置于該基板上，無縫地環繞于該薄膜圖案層。
2.根據權利要求1所述的具有薄膜圖案的基板，其特征在于，該基板為一平面基板或一立體基板。
3.根據權利要求1所述的具有薄膜圖案的基板，其特征在于，其中該基板為一立體基板，且該薄膜圖案層配置于該立體基板的立體部位。
4.根據權利要求1所述的具有薄膜圖案的基板，其特征在于，其中該至少一薄膜圖案層選自以下任意兩種以上的組合：一金屬薄膜層、一無機金屬氧化物薄膜層、一非金屬氧化物薄膜層以及一非金屬薄膜層。
5.根據權利要求1所述的具有薄膜圖案的基板，其特征在于，其中該周邊圖案層為一基底光阻層，或為一金屬薄膜層、一無機金屬氧化物薄膜層、一非金屬氧化物薄膜層或一非金屬薄膜層。
6.根據權利要求1所述的具有薄膜圖案的基板，其特征在于，還包括一保護層，形成于該薄膜圖案層與該周邊圖案層上。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
