[實用新型]一種蒸發(fā)速率可控的電子束蒸發(fā)源有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720229355.7 | 申請日: | 2017-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN206692720U | 公開(公告)日: | 2017-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐永兵;何亮;劉文卿;賴柏霖 | 申請(專利權(quán))人: | 南京大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/54;C30B23/00 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32249 | 代理人: | 陳建和 |
| 地址: | 210093 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蒸發(fā) 速率 可控 電子束 | ||
1.超高真空系統(tǒng)中的電子束蒸發(fā)源,其特征是包括棒狀金屬源材料即金屬源棒、正高壓電源、遮板(8)和生長速率計(9)的組合體、離子收集片(7)、燈絲(5)、定位孔柱即絕緣陶瓷(4)、金屬源棒(3)外圍為冷卻水罩(6),燈絲支架的金屬柱(1)以及線性驅(qū)動器(2),正高壓電源施加金屬源棒正高壓,陰極燈絲發(fā)射的熱電子,由燈絲通電(If)加熱產(chǎn)生的熱電子,金屬源棒被熱電子轟擊加熱發(fā)射出金屬源原子束成為蒸發(fā)源,蒸發(fā)源上設(shè)有一個遮板(8),在停止蒸發(fā)的時候遮擋蒸發(fā)束,遮板上設(shè)有一個同心孔,在遮板打開薄膜生長的時候讓蒸發(fā)束通過;陶瓷耐熱材料制備的定位孔柱來活絡(luò)限定源棒在軸向的進(jìn)動,并使源棒在調(diào)整位置的時候也始終在蒸發(fā)源豎直中心上,蒸發(fā)源發(fā)射路徑上有一個離子收集片,其上有一個同心孔供蒸發(fā)束通過,離子收集片探測到蒸發(fā)原子電離產(chǎn)生的蒸發(fā)束電流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束蒸發(fā)源,其特征是在樣品架上的襯底生長薄膜位置設(shè)有薄膜生長速率計,薄膜生長速率計信息輸出可編程控制系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束蒸發(fā)源,其特征是離子收集片上加一可變負(fù)電壓。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





