[實用新型]可調(diào)平面陰極機構(gòu)及真空鍍膜裝置

有效

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• 申請日: 2017-03-08
• 公開（公告）號: CN206646159U
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳海峰;梁忠;霍啟科
• 申請（專利權(quán)）人: 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應(yīng)用技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224
• 代理人: 鄧云鵬

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種可調(diào)平面陰極機構(gòu)及真空鍍膜裝置。

背景技術(shù)

近年來，平面陰極真空鍍膜技術(shù)在節(jié)能玻璃生產(chǎn)線、顯示器玻璃鍍膜生產(chǎn)線及鋼帶鍍膜生產(chǎn)線等得到了大規(guī)模的應(yīng)用。然而在鍍膜過程中，為了調(diào)整工件的鍍膜均勻性，需調(diào)整可調(diào)平面陰極機構(gòu)的靶材的表面的磁場強度。目前的處理方法是要將生產(chǎn)線停機，打開真空鍍膜腔體，將整個可調(diào)平面陰極機構(gòu)拆出來，重新調(diào)節(jié)可調(diào)平面陰極機構(gòu)的安裝位置，進而調(diào)整磁場。如此不僅耗時長，而且需要多次調(diào)節(jié)才能將磁場強度調(diào)節(jié)到位，因此需要多次拆卸可調(diào)平面陰極機構(gòu)和反復(fù)抽真空，整個過程消耗了大量的時間和人力物力。

實用新型內(nèi)容

基于此，有必要提供一種在線調(diào)節(jié)靶材的表面的磁場強度的可調(diào)平面陰極機構(gòu)及真空鍍膜裝置。

一種可調(diào)平面陰極機構(gòu)，包括：

平面陰極部件，包括陰極體基座、背板、靶材壓板及多個磁體組件；所述背板與所述陰極體基座形成收容腔；所述靶材壓板用于將靶材定位于所述背板的外側(cè)；所述多個磁體組件設(shè)于所述收容腔中，多個所述磁體組件與所述背板相對而設(shè)，且多個所述磁體組件沿所述陰極體基座的長度方向分布；及

多個移位組件，分別與多個所述磁體組件連接，各所述移位組件能帶動對應(yīng)的所述磁體組件遠離或靠近所述背板運動，以增大或減小所述磁體組件與所述靶材的距離，進而增大或減小所述靶材與所述磁體組件相對的表面的磁場強度。

該可調(diào)平面陰極機構(gòu)中，平面陰極部件的多個磁體組件可獨立調(diào)節(jié)靶材上與各磁體組件相對的表面的磁場強度。此外，該可調(diào)平面陰極機構(gòu)通過移位組件實現(xiàn)了靶材表面的磁場強度的自動調(diào)節(jié)，無需打開真空鍍膜腔體將整個可調(diào)平面陰極機構(gòu)拆出，無需停機，避免了多次拆卸可調(diào)平面陰極機構(gòu)和反復(fù)抽真空的過程，實現(xiàn)了在線調(diào)節(jié)靶材表面的磁場強度，提高了生產(chǎn)效率。

在其中一個實施例中，在所述陰極體基座的長度方向上對應(yīng)所述磁體組件和所述移位組件，所述陰極體基座分為多個子陰極體基座，所述背板分為多個子背板，所述靶材壓板分為多個子靶材壓板；所述子陰極體基座和對應(yīng)的子背板形成子收容腔，所述多個磁體組件分別設(shè)于多個子收容腔中，對應(yīng)的所述子陰極體基座、所述子背板、所述子靶材壓板、所述磁體組件和所述移位組件構(gòu)成所述可調(diào)平面陰極機構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元。

在其中一個實施例中，所述移位組件包括驅(qū)動件、傳動件和連接桿，所述連接桿的兩端分別連接于所述傳動件和對應(yīng)的磁體組件，所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述傳動件，所述傳動件帶動所述連接桿運動，從而使得所述連接桿帶動所述磁體組件遠離或靠近所述背板運動。

在其中一個實施例中，所述連接桿連接于所述磁體組件的一端位于所述收容腔中，所述連接桿的另一端露出于所述陰極體基座的頂部。

在其中一個實施例中，所述驅(qū)動件為電機，所述傳動件為轉(zhuǎn)向齒輪箱，所述驅(qū)動件的輸出軸的軸向與所述連接桿的軸向垂直設(shè)置。

在其中一個實施例中，所述磁體組件包括磁體座和磁體，所述磁體安裝于所述磁體座上，所述磁體組件的磁體座連接于所述連接桿。

一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜腔體和上述可調(diào)平面陰極機構(gòu)，所述可調(diào)平面陰極機構(gòu)設(shè)于所述真空鍍膜腔體內(nèi)，且所述多個移位組件安裝于所述真空鍍膜腔體的頂部。

在其中一個實施例中，所述真空鍍膜腔體內(nèi)設(shè)有傳送輥組件，所述傳送輥組件位于所述可調(diào)平面陰極機構(gòu)的下方，且與所述靶材相對設(shè)置；所述傳送輥組件的傳送方向與所述陰極體基座的長度方向垂直設(shè)置。

在其中一個實施例中，所述真空鍍膜裝置還包括檢測儀和控制裝置，所述檢測儀用于獲取鍍膜工件沿所述陰極體基座的長度方向上多個位置的鍍膜厚度；所述控制裝置用于根據(jù)所述多個位置的鍍膜厚度，調(diào)節(jié)相應(yīng)的移位組件帶動對應(yīng)的磁體組件遠離或靠近所述背板運動。

在其中一個實施例中，所述真空鍍膜裝置還包括進樣腔體和用于所述檢測儀檢測的檢測腔體，所述進樣腔體和所述檢測腔體分別能與所述真空鍍膜腔體連通，且所述進樣腔體、所述真空鍍膜腔體和所述檢測腔體依次位于所述傳送輥組件的傳送方向上。

該真空鍍膜裝置采用上述可調(diào)平面陰極機構(gòu)，可在線調(diào)節(jié)靶材表面的磁場強度，進而保證工件的鍍膜均勻性，可廣泛應(yīng)用于各類真空鍍膜生產(chǎn)線。

附圖說明

圖1為一實施例的真空鍍膜裝置的剖面結(jié)構(gòu)圖；

圖2為圖1所示真空鍍膜裝置的可調(diào)平面陰極機構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖；

圖3為圖1所示真空鍍膜裝置的可調(diào)平面陰極機構(gòu)和傳送輥組件及工件的結(jié)構(gòu)圖。

具體實施方式