[實用新型]研磨機或拋光機的上盤結構

有效

• 申請號: 201720223985.3
• 申請日: 2017-03-08
• 公開（公告）號: CN206588801U
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 李創宇;范鏡;吳秀鳳
• 申請（專利權）人: 深圳賽貝爾自動化設備有限公司
• 主分類號: B24B47/04
• 分類號: B24B47/04;B24B29/00;B24B41/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

[技術領域]

本實用新型涉及研磨機或拋光機，尤其涉及一種研磨機或拋光機的上盤結構。

[背景技術]

研磨機或拋光機上磨盤與下磨盤工件加工時，上磨盤圓心處的線速為零。拋光機上毛刷盤旋轉時，盤中心處的毛刷線速度為零，盤中心部位的拋光效果相對圓周附近區域較差，如圖11所示，傳統機型的上盤結構包括4個處于同一圓周上的上磨盤1，4個上磨盤1的回轉軸線離下盤公轉軸線的間距完全一致。處于同一圓周上的4個上磨盤對工件加工的缺陷部位重疊，不能錯開，對工件拋光時效果不好，上毛刷盤中心附近一圈位置的拋光效果始終比其他區域差，造成工件表面加工不均勻的現象，工件表面粗糙度不一致。

[發明內容]

本實用新型要解決的技術問題是提供一種工件表面能夠加工均勻、工件表面粗糙度一致的研磨機或拋光機的上盤結構。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是，一種研磨機或拋光機的上盤結構，包括機架、上磨盤升降機構、復數個上磨盤和與上磨盤數量相同的上磨盤驅動機構，研磨機或拋光機包括下盤，一部分上磨盤回轉軸線離下盤公轉軸線的間距與另一部分上磨盤回轉軸線離下盤公轉軸線的間距不同。

以上所述的上盤結構，所述的上磨盤為4個，兩個所述間距較大的上磨盤相對于下盤公轉軸線對稱布置，兩個所述間距較小的上磨盤相對于下盤公轉軸線對稱布置；沿下盤周向，所述間距較小的上磨盤與所述間距較大的上磨盤間隔布置。

以上所述的上盤結構，所述的機架包括橫梁，上磨盤升降機構包括提升氣缸和提升架，提升氣缸豎直地安裝在橫梁上，提升氣缸活塞桿的下端與提升架連接；上磨盤驅動機構包括電機、減速機、磨盤軸和支承套，電機和減速機固定在提升架的上方，支承套固定在提升架的立孔中；磨盤軸的上端由減速機驅動，下端穿過支承套，上磨盤固定在磨盤軸的下端。

以上所述的上盤結構，機架包括兩根布置在機架底座兩側的立柱，橫梁固定在兩根立柱的頂部，上磨盤升降機構包括兩組直線導軌，直線導軌的軌道豎直地固定在立柱的內側，直線導軌的滑塊固定在提升架上。

以上所述的上盤結構，包括提升架鎖止機構，提升架鎖止機構包括鎖止氣缸和卡鐵，卡鐵固定在鎖止氣缸活塞桿的前端；鎖止氣缸的缸體水平地固定在橫梁的底面，提升氣缸活塞桿下端與提升架的連接部位包括卡槽；提升架鎖止狀態下，卡鐵插入所述的卡槽。

以上所述的上盤結構，上磨盤升降機構包括螺母、彈性膠套、卡套和提升套，提升套的下端包括突緣，提升套的上部包括外螺紋和螺紋孔；提升架的中部包括提升孔，提升套自下而上地穿過提升孔，提升套與提升孔滑動配合；卡套包括所述的卡槽，彈性膠套和卡套套在提升套的外周；彈性膠布置在卡套下方，彈性膠套的底面由提升架支承；螺母固定在提升套上部的外螺紋上，壓住卡套；提升氣缸活塞桿的下端的外螺紋與提升套的螺紋孔旋合。

本實用新型因為一部分上磨盤回轉軸線離下盤公轉軸線的間距與另一部分上磨盤回轉軸線離下盤公轉軸線的間距不同，上磨盤回轉中心對工件加工的負面作用可以相互抵消，工件表面加工均勻、表面粗糙度一致性好。

[附圖說明]

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。

圖1是本實用新型實施例拋光機的主視圖。

圖2是本實用新型實施例拋光機的俯視圖。

圖3是本實用新型實施例拋光機的左視圖。

圖4是本實用新型實施例拋光機的立體圖。

圖5是圖2中的A向剖視圖。

圖6是圖5中的B向剖視圖。

圖7是圖5中的C向剖視圖。

圖8是圖5中Ⅰ部位的局部放大圖。

圖9是圖5中的D向剖視圖。

圖10是圖3中Ⅱ部位的局部放大圖。

圖11是現有技術上磨盤的布局圖。

[具體實施方式]

本實用新型實施例拋光機的結構如圖1至圖10所示，包括機架100、上磨盤升降機構、4個上磨盤1和與4套上磨盤驅動機構，每個上磨盤由獨立的驅動機構驅動。兩個上磨盤1A回轉軸線離下盤公轉軸線H-H的間距大于另外兩個上磨盤1B回轉軸線離下盤公轉軸線H-H的間距。

兩個間距較大的上磨盤1A相對于下盤公轉軸線H-H對稱布置，兩個間距較小的上磨盤1B相對于下盤公轉軸線H-H對稱布置。沿下盤周向，間距較小的上磨盤1B與間距較大的上磨盤1A間隔布置。

機架100包括橫梁10和兩根布置在機架100底座12兩側的立柱11，橫梁 10固定在兩根立柱11的頂部。