[實(shí)用新型]一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720220538.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206538498U | 公開(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李伯仲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 億鴻環(huán)保機(jī)械(蘇州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25D21/06 | 分類號(hào): | C25D21/06;C25D21/18 |
| 代理公司: | 南京利豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)32256 | 代理人: | 王鋒 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電鍍 雜質(zhì) 去除 裝置 | ||
1.一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于:包括結(jié)晶機(jī)構(gòu)、與所述結(jié)晶槽連通的過(guò)濾機(jī)構(gòu)以及與所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)連通的儲(chǔ)存機(jī)構(gòu),所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)用于在通以冷氣的條件下使盛放在其中的藥液產(chǎn)生晶體雜質(zhì),所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)用于承接已結(jié)晶藥液以及去除已結(jié)晶藥液中的晶體雜質(zhì),所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)用于儲(chǔ)存已經(jīng)過(guò)濾后的藥液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)包括結(jié)晶槽,所述結(jié)晶槽內(nèi)設(shè)置有攪拌棒。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述攪拌棒與攪拌馬達(dá)驅(qū)動(dòng)連接,所述攪拌棒上設(shè)置有多個(gè)攪拌葉片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)包括過(guò)濾袋,所述過(guò)濾袋與所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)通過(guò)電動(dòng)球塞閥組和軟管連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)還包括脫水機(jī),所述脫水機(jī)包括用于容納所述過(guò)濾袋的容納腔體和驅(qū)動(dòng)所述容納腔體轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī),所述電動(dòng)機(jī)與所述容納腔體的底部軸體通過(guò)皮帶輪連接,且所述軸體上套設(shè)有軸承。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)包括儲(chǔ)存槽,所述儲(chǔ)存槽與所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,該電鍍液雜質(zhì)去除裝置還包括冷凍機(jī),所述冷凍機(jī)用于向所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)內(nèi)輸入冷氣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述過(guò)濾機(jī)構(gòu)和/或所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)的下方設(shè)置有接水機(jī)構(gòu),所述接水機(jī)構(gòu)采用接水盤。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,所述儲(chǔ)存槽與提供電鍍液的電鍍槽通過(guò)泵浦和管道連通,所述電鍍槽與所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)亦通過(guò)泵浦和管道連通。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍液雜質(zhì)去除裝置,其特征在于,該電鍍液雜質(zhì)去除裝置還包括控制單元,所述控制單元分別與所述結(jié)晶機(jī)構(gòu)、過(guò)濾機(jī)構(gòu)以及儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)電連接。
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