[實用新型]提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置

有效

• 申請號: 201720215958.1
• 申請日: 2017-03-07
• 公開（公告）號: CN206553624U
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 張德培
• 申請（專利權）人: 上海陛通半導體能源科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置，其特征在于：包括馬蹄形磁鐵、心形環、環心固定件、固定圓盤、動平衡塊、霍爾傳感固定塊和軸固定柱；所述的馬蹄形磁鐵固定在心形環和固定圓盤之間，馬蹄形磁鐵北極固定在心形環上，馬蹄形磁鐵南極固定在環心固定件上，此實用新型中，可采用多個馬蹄形磁鐵組合使用；所述的固定圓盤在馬蹄形磁鐵上方，動平衡塊固定在固定圓盤上，霍爾傳感固定塊固定在固定圓盤左側矩形凹槽內；所述的軸固定柱與固定圓盤中心卡扣配合，將永磁裝置固定在馬達軸上。

2.根據權利要求1所述的提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置，其特征在于：所述的馬蹄形磁鐵外形呈馬蹄狀，外側是半圓弧，內側是直槽口，馬蹄形磁鐵上部加工削平，兩端有圓孔貫穿，材料可采用鋁鎳鈷合金5。

3.根據權利要求1所述的提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置，其特征在于：所述的心形環是心形環狀，環上有螺紋孔，用于固定馬蹄形磁鐵，其材料可選用304型號不銹鋼；所述的環心固定件呈類橢圓形，上面有螺紋孔，固定馬蹄形磁鐵，其材料可選用304型號不銹鋼。

4.根據權利要求1所述的提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置，其特征在于：所述的固定圓盤，外形呈圓形，固定圓盤上面有螺紋孔，固定圓盤左側邊緣有一矩形凹槽和螺紋孔，用于與霍爾傳感固定塊固定，固定圓盤中心位置有孔洞和固定卡扣，其材料可采用非磁化材料。

5.根據權利要求1所述的提高濺射鍍膜等離子體中離子濃度的永磁裝置，其特征在于：所述的動平衡塊，外形呈月牙狀，兩側對稱，在整個設備中起重量動態平衡作用，其材料可采用非磁化材料。