[實用新型]一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720208739.0
• 申請日: 2017-03-07
• 公開（公告）號: CN206524694U
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高宇飛
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州愛知高斯電機(jī)有限公司
• 主分類號: H02K1/22
• 分類號: H02K1/22;H02K1/04;H02K15/12
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司44214
• 代理人: 關(guān)家強(qiáng),吳偉文

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及電機(jī)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊。

背景技術(shù)

電機(jī)轉(zhuǎn)子在磁場運(yùn)動中，都要產(chǎn)生感應(yīng)電動勢，形成渦流，使電機(jī)鐵芯發(fā)熱，消耗電能，為了減少渦流損耗，鐵芯用硅鋼片疊成，并且在硅鋼片表面涂絕緣漆或絕緣氧化物。磁通穿過硅鋼片的狹窄截面時，渦流被限制在硅鋼片各片中的狹小回路中，這些回路中的凈電動勢較小，回路的長度較大并且硅鋼片涂層的電阻率大，以這種形式減小渦流損耗。

現(xiàn)有的降低渦流損耗的辦法是，在鐵芯硅鋼片表面涂絕緣漆或絕緣氧化物。缺點(diǎn)是，對減小渦流損耗是有限的。

實用新型內(nèi)容

本實用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊，能夠增加電阻率，降低渦流損耗，提升電機(jī)的運(yùn)行效率。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的一個技術(shù)方案是：提供一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊，包括：在電磁塊的外側(cè)設(shè)置有三層鍍層，在所述電磁塊外側(cè)設(shè)置有預(yù)浸鎳層，在所述預(yù)浸鎳層的外側(cè)設(shè)置有低磷化學(xué)鎳層，在所述低磷化學(xué)鎳層的外側(cè)設(shè)置有化學(xué)鍍鎳層。

優(yōu)選的，所述電磁塊的材質(zhì)采用釹鐵硼42SH。

優(yōu)選的，所述預(yù)浸鎳層、低磷化學(xué)鎳層、化學(xué)鍍鎳層的厚度均設(shè)置為2～3μm。

優(yōu)選的，所述化學(xué)鍍鎳層采用具有高耐腐蝕性的化學(xué)鍍鎳層。

本實用新型的有益效果是：本實用新型通過增加電磁塊鍍層，起到增加電阻率，降低渦流損耗，提升電機(jī)的運(yùn)行效率；并且運(yùn)行試驗電機(jī)相電流減小，溫升效果較之前有所降低。

附圖說明

圖1是本實用新型一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊一較佳實施例的結(jié)構(gòu)

示意圖；

附圖中各部件的標(biāo)記如下：1、電磁塊，2、預(yù)浸鎳層，3、低磷化學(xué)鎳層，4、化學(xué)鍍鎳層。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型的較佳實施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本實用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1，本實用新型實施例包括：

一種用于電機(jī)的低渦流損耗電磁塊，包括：在電磁塊1的外側(cè)設(shè)置有三層鍍層，在所述電磁塊1外側(cè)設(shè)置有預(yù)浸鎳層2，在所述預(yù)浸鎳層2的外側(cè)設(shè)置有低磷化學(xué)鎳層3，在所述低磷化學(xué)鎳層3的外側(cè)設(shè)置有化學(xué)鍍鎳層4。

本實用新型的鍍層過程如下所示：一、先將電磁塊1在堿性溶液中預(yù)浸鎳層2防止粉化腐蝕；二、再利用低氫工藝在電磁塊1底層上鍍2-3μm厚度的低磷化學(xué)鎳3；三、在電磁塊1表面鍍上具有高耐腐蝕性的化學(xué)鍍鎳層4，達(dá)到徹底防止粉化腐蝕。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。