[實(shí)用新型]一種燙鉆鏡面研磨拋光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720201415.4
• 申請日: 2017-03-02
• 公開（公告）號: CN206998587U
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝伯強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山市南海藍(lán)碟羽五金制品有限公司
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/27;B24B37/34
• 代理公司: 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11350
• 代理人: 趙蕊紅

【技術(shù)領(lǐng)域】

本實(shí)用新型涉及一種研磨拋光裝置，尤其設(shè)計(jì)一種燙鉆鏡面研磨拋光裝置。

【背景技術(shù)】

燙鉆體積小，在研磨拋光工藝中，如果單獨(dú)對每一顆進(jìn)行研磨拋光，則會極大的降低效率。因此現(xiàn)有技術(shù)中一般對多個(gè)燙鉆通過吸塑膠片進(jìn)行固定，然后一次性研磨拋光。在研磨過程中，需要有多個(gè)研磨器來對燙鉆進(jìn)行粗磨、中磨和細(xì)磨，現(xiàn)有技術(shù)中的研磨器均擺放在同一個(gè)平面，導(dǎo)致了研磨拋光裝置占地面積大，工人操作過程中也需要不斷的來回走動加大勞動強(qiáng)度。因此有必要提供一種可減少占地面積，降低工人勞動強(qiáng)度的拋光裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

本實(shí)用新型旨在解決上述問題而提供一種可以減少占地面積、降低勞動強(qiáng)度的燙鉆鏡面研磨拋光裝置。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的一種燙鉆鏡面研磨拋光裝置包括研磨箱體10、設(shè)置在研磨箱體10內(nèi)的研磨器20、和用于將吸塑膠片40放置在研磨器20上的支架30，所述的研磨箱體10設(shè)置有若干個(gè)臺階11，任一臺階11上均設(shè)置有研磨孔12，所述的研磨器20數(shù)量與研磨孔12數(shù)量對應(yīng)，所述的吸塑膠片40通過研磨孔12放置在研磨器20上，所述的研磨器20錯(cuò)落的設(shè)置在臺階11下方。

進(jìn)一步的，相鄰的研磨器20不處于同一平面且在投影面上有重疊。

進(jìn)一步的，所述的吸塑膠片40固定在支架30上，支架30上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)器31，所述的旋轉(zhuǎn)器31旋轉(zhuǎn)將支架30倒下，從而使吸塑膠片40平置于研磨器20上。

進(jìn)一步的，所述的研磨器20連接電機(jī)50并可由電機(jī)50帶動旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步的，所述的研磨器20為粗磨器、中磨器、細(xì)磨器中的一種或多種。

本實(shí)用新型的貢獻(xiàn)在于提供了一種燙鉆鏡面研磨拋光裝置，該裝置通過將研磨箱體設(shè)置成有階梯結(jié)構(gòu)的裝置，讓研磨器可以錯(cuò)開安裝在研磨箱體內(nèi)，使研磨器不在同一水平面上，且在投影方向上有重疊，這樣就可以減少研磨器在研磨箱體內(nèi)所占的空間；同時(shí)也因?yàn)檠心テ鞯目缍刃×耍梢圆挥脕砘刈邉訉?shí)現(xiàn)操作，因此也可以減少人工的勞動強(qiáng)度；再次，本實(shí)用新型可以將多個(gè)表面粗細(xì)不一研磨器設(shè)置在研磨箱體內(nèi)，實(shí)現(xiàn)不同階段的研磨拋光工藝。

【附圖說明】

圖1為本實(shí)用新型正面內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】

下列實(shí)施例是對本實(shí)用新型的進(jìn)一步解釋和補(bǔ)充，對本實(shí)用新型不構(gòu)成任何限制。

實(shí)施例1

如圖1、2所示，本實(shí)施例的一種燙鉆鏡面研磨拋光裝置包括研磨箱體10、設(shè)置在研磨箱體10內(nèi)的研磨器20、和用于將吸塑膠片40放置在研磨器20上的支架30，所述的研磨箱體10設(shè)置有若干個(gè)臺階11，任一臺階11上均設(shè)置有研磨孔12，所述的研磨器20數(shù)量與研磨孔12數(shù)量對應(yīng)，所述的吸塑膠片40通過研磨孔12放置在研磨器20上，所述的研磨器20交叉錯(cuò)落的設(shè)置在臺階11下方。相鄰的研磨器20不處于同一平面且在投影面上有重疊。傳統(tǒng)的燙鉆拋光裝置都將研磨器擺成同一個(gè)平面的一排，且相互之間隔有一定的縫隙，這就要求研磨箱體的體積必須要大。為了解決上述問題，本實(shí)施例中的燙鉆鏡面研磨拋光裝置將研磨箱體10設(shè)置多個(gè)臺階11，臺階11的下方設(shè)置研磨器20，研磨器20錯(cuò)落的設(shè)置在臺階11下方。這樣的設(shè)計(jì)首先使研磨器20不設(shè)置在同一平面上，在豎直方向上就節(jié)省出很多空間，相鄰的研磨器20之間也不需要留縫隙，極大的縮小了研磨箱體10的橫向體積。人工操作也不需要來回走動，降低工人的勞動強(qiáng)度。同時(shí)設(shè)置有臺階11的研磨箱體10內(nèi)用于研磨的水可以從高出往低處流，不需要額外對所有研磨器20進(jìn)行沖水。

實(shí)施例2

如圖1、2所示，本實(shí)施例中，所述的吸塑膠片40固定在支架30上，支架30上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)器31，所述的旋轉(zhuǎn)器31旋轉(zhuǎn)將支架30倒下，從而使吸塑膠片40平置于研磨器20上。所述的研磨器20連接電機(jī)50并可由電機(jī)50帶動旋轉(zhuǎn)。所述的研磨器20為粗磨器、中磨器、細(xì)磨器中的一種或多種。研磨器20分為多種可滿足不同成都的精磨，電機(jī)50用于驅(qū)動所有的研磨器20轉(zhuǎn)動，需要研磨時(shí)，將旋轉(zhuǎn)器31旋轉(zhuǎn)，使支架30倒下，將吸塑膠片40平置于研磨器20上。

盡管通過以上實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了揭示，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，在不偏離本實(shí)用新型構(gòu)思的條件下，對以上各構(gòu)件所做的變形、替換等均將落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)。