[實用新型]一種用于光刻機的新型UV曝光系統

有效

• 申請號: 201720190164.4
• 申請日: 2017-03-01
• 公開（公告）號: CN206684475U
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發明（設計）人: 賈亞飛
• 申請（專利權）人: 賈亞飛
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于光刻機的新型UV曝光系統，其特征在于，包括：UV LED燈組，聚光組，勻光組和準直組；

所述UV LED燈組，作為曝光系統的光源，用于發射紫外光束；

所述聚光組，用于匯聚和整形多顆UV LED發出的光束，提高光能利用率；

所述勻光組，用于將光束細分，起到勻光的作用；

所述準直組，用于整形和準直光束，提高準直度。

2.根據權利要求1所述的一種用于光刻機的新型UV曝光系統，其特征是，所述UV LED燈組包括多顆UV LED，其排布形式由中心向周圍環形排布，總個數由被照射工作面的輻照度要求決定；UV LED中心波長在紫外區域，具體波長由工藝要求決定。

3.根據權利要求1所述的一種用于光刻機的新型UV曝光系統，其特征是，所述聚光組按照光束傳播的方向依次包括：匯聚單元，每顆UV LED對應一個匯聚單元，每個匯聚單元由多片單透鏡組成，用于將UV LED發出的大角度光匯聚，同時將光束匯聚到擴束單元前焦點處；擴束單元，由一片或兩片單透鏡組成，用于將所述匯聚單元收集的光線整體平行投射到勻光組。

4.根據權利要求1所述的一種用于光刻機的新型UV曝光系統，其特征是，所述勻光組由多顆小透鏡按照任意3個相鄰小透鏡中心連線為正三角形的方式緊密排列組成，用于將所述聚光組投射的光斑細分，類似形成多個獨立的小光源，多個獨立的小光源的出射光在工作面互相疊加，達到勻光的目的。

5.根據權利要求1所述的一種用于光刻機的新型UV曝光系統，其特征是，所述準直組按照光束傳播的方向依次包括：場鏡，用于將軸外光線向中心偏折，提高光能利用率和均勻性；反射鏡，用于改變光束的傳播方向，使整個系統的結構更加緊湊；長焦距透鏡，用于擴展和準直光束。