[實用新型]鍍膜機蒸發源系統

有效

• 申請號: 201720181793.0
• 申請日: 2017-02-27
• 公開（公告）號: CN206486586U
• 公開（公告）日: 2017-09-12
• 發明（設計）人: 劉忠興
• 申請（專利權）人: 江陰市中興光電實業有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙)32260
• 代理人: 張歡勇

1.一種鍍膜機蒸發源系統，包括電子槍、坩堝以及用于驅動坩堝的電機，所述電子槍以及坩堝均設置在鍍膜機真空腔的底板上，坩堝上設置多個料槽，電子槍發射電子束將料槽中磨料加熱蒸發，其特征在于：所述坩堝側壁與電子槍側壁之間設置0.8到2mm的裝備間隙用于坩堝和電子槍的安裝，所述坩堝的圓周面上設置環形的凹槽，凹槽包括兩個對稱設置的斜坡面形成引流結構，凹槽的橫截面呈等腰梯形，梯形的兩個腰分別位于斜坡面上。

2.根據權利要求1所述的鍍膜機蒸發源系統，其特征在于：所述坩堝下端設置環形凸緣用于將坩堝安裝在鍍膜機真空腔的底板上，坩堝的上端面直徑大于環形凸緣的外徑與環形凸緣與底板的間隙之和。

3.根據權利要求1所述的鍍膜機蒸發源系統，其特征在于：所述坩堝上方設置可以擺動的用于遮擋未達標膜料的擋板。

4.根據權利要求1所述的鍍膜機蒸發源系統，其特征在于：所述凹槽位于坩堝的上半部分。