[實用新型]F?P構型可調諧調Q開關

有效

• 申請號: 201720172742.1
• 申請日: 2017-02-25
• 公開（公告）號: CN206850220U
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 席道明;黃凌雄;呂艷釗;馬永坤;魏皓
• 申請（專利權）人: 江蘇天元激光科技有限公司
• 主分類號: H01S3/115
• 分類號: H01S3/115
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種F-P構型可調諧調Q開關，其特征在于，它置于激光諧振腔的一端，它包括：

用于對輸入的激光進行調諧得到單一波長的激光的自準直棱鏡（L）；

F-P構型調Q器件（FP），所述F-P構型調Q器件（FP）由具有電致伸縮效應的光學材料制成，并且所述F-P構型調Q器件（FP）的前端面緊貼在自準直棱鏡（L）的后端面上；

用于對F-P構型調Q器件（FP）施加調制電場的調制電場產生組件，所述調制電場產生組件以電致伸縮效應控制激光在F-P構型調Q器件（FP）中的光程，當對應的光程滿足法布里-珀羅干涉條件時，調諧后的激光透過所述F-P構型調Q器件（FP），并在F-P構型調Q器件（FP）內產生調Q激光后輸出；

所述自準直棱鏡（L）具有靠近激光諧振腔的激光工作介質的第一先光學端面（f4）和緊貼F-P構型調Q器件（FP）的前端面的第一后光學端面（f3），所述第一先光學端面（f4）和所述第一后光學端面（f3）上設置有對激光增透的第一介質膜，所述F-P構型調Q器件（FP）的前端面為第二先光學端面（f2），所述F-P構型調Q器件（FP）的后端面為第二后光學端面（f1），所述第二后光學端面（f1）、第二先光學端面（f2）和所述第一后光學端面（f3）平行，所述第二先光學端面（f2）上設置有對調諧后的激光全反射的第二介質膜（HR2），所述第二后光學端面（f1）上設置有對調諧后的激光全反射的第三介質膜（HR1）；

所述調制電場產生組件包括正電極（P+）和負電極（P-），在所述正電極（P+）和所述負電極（P-）中，其中一個設置在所述F-P構型調Q器件（FP）的上側面上，另外一個設置在所述F-P構型調Q器件（FP）的下側面上。

2.根據權利要求1所述的F-P構型可調諧調Q開關，其特征在于：所述激光工作介質為激光晶體或激光陶瓷或激光光纖或激光玻璃或激光染料。

3.根據權利要求1所述的F-P構型可調諧調Q開關，其特征在于：所述自準直棱鏡（L）由晶體或光學陶瓷或玻璃制成。

4.根據權利要求1所述的F-P構型可調諧調Q開關，其特征在于：所述F-P構型調Q器件（FP）由具有電致伸縮效應的晶體或光學陶瓷或玻璃制成。