[實用新型]微納結構壓印模具

有效

• 申請號: 201720163053.4
• 申請日: 2017-02-23
• 公開（公告）號: CN206579046U
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 高育龍;李廷鋼;楊廣舟;趙云華
• 申請（專利權）人: 昇印光電（昆山）股份有限公司
• 主分類號: B29C43/36
• 分類號: B29C43/36;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種微納結構壓印模具，其特征在于，其包括承載體及設置于所述承載體一側面上的微納結構區，所述微納結構區包括復數微納結構，所述復數微納結構包括復數凸起結構和復數凹下結構，所述凸起結構和凹下結構交替設置，所述承載體于微納結構區的周邊設置有在所述模具使用時防止涂膠過程中破壞所述復數凸起結構的保護結構。

2.根據權利要求1所述的微納結構壓印模具，其特征在于，所述承載體在平行于所述側面定義有涂膠時的涂膠面，所述凸起結構與所述涂膠面無接觸。

3.根據權利要求2所述的微納結構壓印模具，其特征在于，在垂直于所述承載體側面的截面上，所述保護結構的高度低于所述涂膠面的高度。

4.根據權利要求2所述的微納結構壓印模具，其特征在于，在垂直于所述承載體側面的截面上，所述復數凸起結構的最高高度等于或小于所述保護結構的高度。

5.根據權利要求2所述的微納結構壓印模具，其特征在于，在垂直于所述承載體側面的截面上，所述復數凸起結構的最高點在高度上位于所述保護結構和涂膠面之間。

6.根據權利要求1所述的微納結構壓印模具，其特征在于，在垂直于所述承載體側面的截面上，所述保護結構的高度大于等于所述凸起結構的高度。

7.根據權利要求1至6項中任一項所述的微納結構壓印模具，其特征在于，所述微納結構區相對于所述側面凹陷設置，所述側面位于所述保護結構上。

8.根據權利要求7所述的微納結構壓印模具，其特征在于，所述微納結構區與保護結構的相接處設置為凹下結構。

9.根據權利要求7所述的微納結構壓印模具，其特征在于，所述微納結構區的微納結構為微透鏡、柱面鏡、菲涅爾透鏡、CD紋、蛾眼結構或拉絲紋。

10.根據權利要求7所述的微納結構壓印模具，其特征在于，所述微納結構壓印模具還包括基層、具有遮光或絕熱功能的遮掩結構及覆蓋層，所述遮掩結構位于所述基層的一側，所述承載層位于所述基層與所述遮掩結構所在的同側，所述微納結構區位于所述承載層遠離所述基層的一側，所述覆蓋層覆蓋所述遮掩結構且位于所述遮掩結構遠離所述基層的一側。