[實用新型]自動磨邊機

有效

• 申請號: 201720160308.1
• 申請日: 2017-02-21
• 公開（公告）號: CN206519801U
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 陳顯彭
• 申請（專利權）人: 汕尾市藝強科技工程有限公司
• 主分類號: B24B9/10
• 分類號: B24B9/10;B24B41/00;B24B41/06;B24B27/00
• 代理公司: 深圳市中科創為專利代理有限公司44384
• 代理人: 曹紅梅,蘇芳

技術領域

本實用新型涉及顯示屏玻璃加工技術領域，特別涉及一種自動磨邊機。

背景技術

顯示屏玻璃在加工制作時需要磨邊處理，現有技術的磨邊設備生產效率不夠高，自動化程度不高。

實用新型內容

本實用新型的主要目的是提供一種自動磨邊機，旨在提升顯示屏玻璃磨邊的自動化水平和提高生產效率。

為實現上述目的，本實用新型提出一種自動磨邊機，包括上料機械手、第一真空吸附平臺、第二真空吸附平臺、第一磨頭、第二磨頭及下料機械手；該第一磨頭和第二磨頭并排設置，該第一真空吸附平臺與第一磨頭相對設置，該第二真空吸附平臺與第二磨頭相對設置，且第一真空吸附平臺和第二真空吸附平臺可吸附相應的物料來回滑動；該上料機械手置于第一真空吸附平臺一側用于將物料吸取后放置于第一真空吸附平臺上；該下料機械手置于第二真空吸附平臺一側用于將第二真空吸附平臺上加工完成的物料取走。

優選地，該第一真空吸附平臺與第二真空吸附平臺與底部設置的滑軌相配合。

優選地，該第一真空吸附平臺與第二真空吸附平臺底部各設置一條相配合的滑軌。

本實用新型提供的自動磨邊機包括兩組磨頭和真空吸附平臺，可以同時對顯示屏玻璃進行磨邊加工，且通過上料機械手自動上料，下料機械手自動下料，提升了自動化程度，提高了生產效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型一實施例提供的自動磨邊機的結構示意圖。

本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

需要說明，本實用新型實施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)僅用于解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關系、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。

另外，在本實用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當人認為這種技術方案的結合不存在，也不在本實用新型要求的保護范圍之內。

本實用新型提出一種自動磨邊機。

參照圖1，圖1為本實用新型一實施例提供的自動磨邊機的結構示意圖。

該自動磨邊機包括上料機械手10、第一真空吸附平臺20、第二真空吸附平臺30、第一磨頭40、第二磨頭50及下料機械手60；該第一磨頭40和第二磨頭50并排設置，該第一真空吸附平臺20與第一磨頭40相對設置，該第二真空吸附平臺30與第二磨頭50相對設置，且第一真空吸附平臺20和第二真空吸附平臺30可吸附相應的物料來回滑動；該上料機械手10置于第一真空吸附平臺20一側用于將物料吸取后放置于第一真空吸附平臺20上；該下料機械手60置于第二真空吸附平臺30一側用于將第二真空吸附平臺30上加工完成的物料取走。

該自動磨邊機的上料機械手10可以吸取前方上料機構供應的玻璃片物料并放置于第一真空吸附平臺20上，該第一真空吸附平臺20吸取相應的玻璃片后相對第一磨頭40來回滑動，該第一磨頭40可對玻璃片的一邊進行打磨加工，打磨完成后，通過相應的旋轉機構將該玻璃片旋轉180°后放置于第二真空吸附平臺30上，該第二真空吸附平臺30吸取該玻璃片后相對第二磨頭50滑動對該玻璃片的另一條邊進行打磨加工，打磨完成后，該下料機械手60吸取該玻璃片并移送至下方的自動研磨清洗機進行進一步的研磨清洗加工。

優選地，該第一真空吸附平臺20與第二真空吸附平臺30與底部設置的滑軌70相配合。

優選地，該第一真空吸附平臺20與第二真空吸附平臺30底部各設置一條相配合的滑軌70。