[實用新型]一種抗菌人造草坪有效
| 申請號: | 201720159226.5 | 申請日: | 2017-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN206495108U | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 李畢忠;張希平;彭紅芳 | 申請(專利權)人: | 北京崇高納米科技有限公司 |
| 主分類號: | E01C13/08 | 分類號: | E01C13/08;E01C11/22 |
| 代理公司: | 北京東正專利代理事務所(普通合伙)11312 | 代理人: | 劉瑜冬 |
| 地址: | 100094 北京市海淀區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 抗菌 人造草坪 | ||
技術領域
本實用新型屬于地面裝飾技術領域,具體涉及一種抗菌人造草坪。
背景技術
在世界上的許多國家,由于受不同的地理位置、極端的自然條件以及各自的經濟狀況等因素的影響,使得天然草坪的鋪設和維護變得比較困難。人造草最開始起源于美國,是以類似草的纖維化合物經機械編制于基層上,在多種運動場中作為場地的地面材料。近年來,隨著足球、網球、高爾夫球等運動的產業化、商業化發展,人造草坪的發展也非常迅速,除了應用于體育運動場所,還可應用于各種休閑場所。
現有的人造草坪主要由基層、緩沖層和草絲構成,緩沖層主要采用橡膠顆粒進行填充,這樣的人造草坪緩沖性能一般,只能滿足沖擊強度小的或幾乎沒有沖擊作用的運動場地的需求,而對于沖擊力較大的運動場地,需要盡量減少對運動員的損傷,則這樣的人造草坪無法滿足需求。
實用新型內容
為解決上述技術問題,本實用新型提供了一種緩沖性能更好的抗菌人造草坪。
實現上述發明目的的具體技術方案為,一種抗菌人造草坪,包括基層、緩沖層和草皮層,基層、緩沖層和草皮層由下至上依次層疊鋪設,上述緩沖層包括第一緩沖條、第二緩沖條和墊平層,第一緩沖條和第二緩沖條均為向上凸起的橡膠緩沖條;第一緩沖條排列設置于基層上并沿前后方向延伸,第二緩沖條固定架設于第一緩沖條上,并沿左右方向延伸;草皮層包括底布和簇織在底布上的草絲,草絲表面涂覆有聚乙烯抗菌層。
結合第一方面,在第一方面的一種可能的實現方式中,上述第一緩沖條和/或第二緩沖條的高度從一端到另一端逐漸減小。
結合第一方面或上述某些可能的實施方式,在第一方面的一種可能的實現方式中,第一緩沖條和/或第二緩沖條高度較小的一端設有排水溝。
結合第一方面或上述某些可能的實施方式,在第一方面的一種可能的實現方式中,上述緩沖層的厚度為4~7mm。
結合第一方面或上述某些可能的實施方式,在第一方面的一種可能的實現方式中,草絲在底布上按行簇織,草絲行的方向與第一緩沖條、第二緩沖條的延伸方向交錯。
結合第一方面或上述某些可能的實施方式,在第一方面的一種可能的實現方式中,上述基層包括碎石層和/或石英砂層。
通過第一緩沖條和第二緩沖條相互交錯呈十字型設置,再在第二緩沖條上設置墊平層,將草皮層設置在墊平層上,保證了草坪的平整性,并且,通過多層緩沖以及橡膠緩沖條和空氣共同緩沖的作用,從整體上提高人造草坪的緩沖性能,使其能夠適應沖擊力較大的運動場的需求。
此外,由于第一緩沖條向上凸起,相鄰的第一緩沖條之間形成溝壑,類似的,第二緩沖條之間也形成溝壑,第一緩沖條和第二緩沖條又交錯設置,形成上下兩層之間的通道,從而提高了人造草坪的滲水性能,有利于人造草坪的排水。
附圖說明
圖1為本實用新型的抗菌人造草坪的其中一個實施例的結構示意圖。
圖2為本實用新型的抗菌人造草坪的其中一個實施例局部結構示意圖。
圖3為本實用新型的抗菌人造草坪的另一個實施例的局部結構示意圖。
上述附圖中的標記為:1、基層;2、緩沖層;21、第一緩沖條;22、第二緩沖條;23、墊平層;3、草皮層;31、草絲;32、底布;4、排水溝。
具體實施方式
在本實用新型的描述中,需要理解的是,除非另有明確的規定和限定,術語“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。
術語“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內”、“外”、“中心”、“豎直”、“水平”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本實用新型的限制。
第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸,也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它們之間的另外的特征接觸。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。
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