[實用新型]硅塊雜質監測工裝

有效

• 申請號: 201720144419.3
• 申請日: 2017-02-17
• 公開（公告）號: CN206470215U
• 公開（公告）日: 2017-09-05
• 發明（設計）人: 敦朝亮;劉丙良;楊玉蓮
• 申請（專利權）人: 英利能源（中國）有限公司
• 主分類號: G01N21/94
• 分類號: G01N21/94
• 代理公司: 石家莊國為知識產權事務所13120
• 代理人: 王麗巧

技術領域

本實用新型涉及太陽能硅片生產技術領域，尤其涉及一種硅塊雜質監測工裝。

背景技術

目前太陽能切片環節中由于硅錠在生產過程中的生產環境和工藝造成硅錠內部總會存在一定量的氧（O）/碳（C）雜質，這種雜質相對正常的硅料的硬度較大，因此在后續切片過程中切割用的鋼線在切割到此類雜質時會對鋼線造成損傷，導致鋼線斷線，嚴重影響切片工序的成品率。

當前硅錠切成硅塊后一般是采用紅外探傷儀掃描每一個硅塊，通過陰影掃描所成的圖像分辨出硅塊中是否存在雜質，以及雜質在硅塊中的位置，標識位置后通過其他手段先進行切除防止在切片環節造成鋼線斷線引起質量損失。

由于硅塊的頭部和尾部一定長度是不投入后續工序進行生產的，利用紅外探傷儀對硅塊進行照射，再利用攝像頭進行圖像采集，硅塊所成圖像是一種近乎透明的，雜質的顏色較深通過圖像可以進行辨別。如果存在雜質在圖像中會呈現黑斑狀，進而判定雜質存在的位置：1、如果雜質存在硅塊的中部區域那必須進行測量標注后進行切除。2、如果雜質存在硅塊的頂部區域那要判定雜質是否在硅塊有效利用的長度范圍內，如果雜質有較大幾率出現在硅塊頭尾部分。通過肉眼很難準確的判定雜質是否在有效利用的長度內，這就需要進行測量確認。肉眼判斷誤差較大，借助鋼板尺進行測量耗時費力，用手標記后再用尺子測量，因手的不穩定性而存在偏差，劃線與測量分開操作費時費力，也會由于讀數角度不方便容易造成讀數偏差，同時鋼板尺接觸硅塊也容易磕碰而造成質量損失。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足，提供一種操作方便快捷的硅塊雜質監測工裝，能夠有效保護硅塊的完好性。

為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案是：

一種硅塊雜質監測工裝，包括工作臺、光源、雜質標定裝置、遮擋鋼線和紅外線攝像頭，所述光源、雜質標定裝置、遮擋鋼線和紅外線攝像頭依次設置在工作臺上，所述雜質標定裝置緊鄰待檢測硅塊設置，所述待檢測硅塊設置在光源與雜質標定裝置之間，所述遮擋鋼線水平設置在雜質標定裝置與紅外線攝像頭之間、且靠近紅外線攝像頭設置，所述光源和紅外線攝像頭底部均設有底座，所述遮擋鋼線端部能夠沿立柱上下滑動。

優選地，所述雜質標定裝置包括水平尺和高度尺，所述水平尺一端與高度尺相連、且能夠沿高度尺上下滑動，所述水平尺緊靠待檢測硅塊設置。

優選地，所述水平尺端部設有套管，所述套管套裝在高度尺上，所述套管側面設有緊固螺栓，通過緊固螺栓能夠將套管固定在高度尺上。

優選地，所述水平尺端部與套管鉸接，所述高度尺下端與工作臺鉸接。

優選地，所述立柱上涂有刻度。

優選地，所述遮擋鋼線端部通過滑套與立柱配合，所述滑套與立柱通過螺釘限位。

優選地，所述水平尺為塑料材質。

采用上述技術方案所產生的有益效果在于：在紅外線攝像頭和硅塊之間加裝高度可調節的水平遮擋鋼線，在硅塊成像的過程中遮擋鋼線的圖像也會呈現在硅塊的圖像上，利用光遮擋和數學原理通過計算可得出遮擋鋼線在硅塊上形成的黑線陰影對應硅塊有效利用長度的范圍和頂部不利用范圍的臨界線，然后可通過肉眼來判定雜質是否在硅塊有效利用的長度內，減少了測量的次數，提高了勞動效率的同時降低了操作疏忽造成的質量損失；利用雜質標定裝置可標定出存在于硅塊的有效利用長度范圍內的雜質的具體位置，然后進行劃線。利用本實用新型能夠簡化操作步驟，提高工作效率。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例提供的一種硅塊雜質監測工裝的結構示意圖；

圖2是圖1的俯視圖；

圖3是圖1的左視圖；

圖中：1-工作臺，2-光源，3-遮擋鋼線，4-紅外線攝像頭，5-待檢測硅塊，6-底座，7-立柱，8-水平尺，9-高度尺，10-套管，11-緊固螺栓。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及具體實施例，對本實用新型作進一步詳細的說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。