[實用新型]倒置式全內反射檢測工作平臺有效
| 申請號: | 201720120223.0 | 申請日: | 2017-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN206497041U | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 徐文峰;廖曉玲;徐紫宸 | 申請(專利權)人: | 重慶科技學院 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 401331 重*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 倒置 式全內 反射 檢測 工作 平臺 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種一體機的工作平臺,更為具體地講是屬于醫療設備體外診斷領域的一種集成化全內反射微流控芯片檢測一體機的倒置式檢測工作平臺。
背景技術
全內反射熒光顯微術是近年來新興的一種光學成像技術,它利用全內反射產生的漸逝場來照明樣品,從而致使在百納米級厚的光學薄層內的熒光團受到激發,熒光成像的信噪比很高。這種方法的成像裝置簡單,極易和其它成像技術、探測技術相結合。目前已成功的實現100nm甚至更低的空間分辨率。而目前微流控芯片得到了迅速發展,而今天阻礙微流控技術發展的瓶頸仍然是應用方面的問題。全內反射光學檢測技術就是一項符合與微流控芯片集成的光學檢測技術,目前已經被細胞生物學家和神經科學家廣泛應用,成為了細胞-基底接觸區域內的豐富的細胞生命活動最強有力的探測方法。如細胞膜內蛋白質的動力學過程,基底附近的細胞骨架,細胞運動等。
全內反射熒光顯微技術依賴于斜射光線在兩種不同折射率光學介質表面產生的極淺的消逝波。該效應產生的條件是入射介質折射率大于折射介質,并且斜射照射到光學界面時入射角大于全反射臨界角。其顯微鏡技術分為棱鏡型和物鏡型。對物鏡型全內反射熒光顯微技術,顯微鏡的物鏡既作為收集樣品熒光信號的接受器,同時又作為發生全反射的光學器件。因此,加工難度和生產成本,都比較高。為降低集成化全內反射微流控芯片檢測一體機的制造成本,需要一種易于加工,構造簡單,成本較低的全內反射檢測工作平臺。
為解決一種集成化全內反射微流控芯片檢測一體機的這一難題,需要我們提供一體機的倒置式檢測工作平臺的解決方案。
發明內容
本實用新型的目的在于克服現有技術的不足,提供集成化全內反射微流控芯片檢測一體機使用的倒置式檢測工作平臺。
本實用新型的目的技術方案為:一種倒置式全內反射檢測工作平臺,由接收裝置、載物臺和全內反射棱鏡組成,其特征在于:接收裝置安裝在載物臺下方的位置處,載物臺下方的表面安裝有獨立、可拆卸的全內反射棱鏡。此設計,避免了以往將待檢測物與全內反射棱鏡加工在一起,檢測一次用掉一個全內反射棱鏡,造成檢測費用很高。現在設計將原來檢測耗材的全內反射棱鏡改為常用的部件,大大降低了加工和使用成本。在載物臺上方的位置處還安裝有顯微鏡鏡頭裝置。接收裝置在朝載物臺方向的上端,安裝有透鏡和濾光片,能夠接收聚焦和篩選的全內反射熒光信號。顯微鏡鏡頭裝置按照正置熒光顯微鏡規格和物鏡光路,安裝有不同倍數的物鏡鏡頭、可見光及熒光發生器的光路和相應的濾光片,能夠實現熒光顯微鏡和相差顯微鏡功能。所述載物臺正中間部位是上下貫通的長方形的檢測窗,在檢測窗內邊四周加工有上下活動的2mm~10mm寬0.35mm厚的芯片槽。芯片槽的作用在于對于小芯片的放置承載作用,不至于掉出檢測窗;以及起到對有凸出芯片底片的檢測芯片的下降位置的限位作用,不至于檢測芯片朝下凸出載物臺的下表面超過檢測芯片的1/2厚,保障檢測芯片與全內反射棱鏡固定后的穩定。放在芯片槽中的檢測芯片通過長方形的檢測窗長邊兩端頭安裝的芯片下卡具和芯片上卡具,將芯片液體檢測區待檢的一面朝下放置,且能平齊或凸出載物臺的下表面,滿足實現與全內反射棱鏡的緊密貼合。所述載物臺下表面在長方形的檢測窗的長邊兩側,加工有四個棱鏡緊固裝置;四個棱鏡緊固裝置通過拉伸緊固連桿與載物臺上表面對應加工安裝的四個棱鏡卡具緊固器相連,夾緊固定載物臺下表面的全內反射棱鏡。能夠將全內反射用的高折射率全內反射棱鏡的表平面與檢測芯片的芯片液體檢測區待檢的一面緊貼在一起,保證全內反射光的產生。
上述技術方案中,所述載物臺的兩側加工安裝有左右傳動裝置和前后傳動裝置,保證載物臺的靈活位移調整。所述芯片下卡具和芯片上卡具是由透明的、彈性材料加工的,上下夾緊、固定檢測芯片。保證了最大限度地不影響檢測。芯片下卡具和芯片上卡具的緊固操作,能夠通過電動自動化緊固,或通過手動操作緊固。
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