[實(shí)用新型]一種坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720105076.X | 申請(qǐng)日: | 2017-01-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206396318U | 公開(公告)日: | 2017-08-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 全威;吳長(zhǎng)晏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 坩堝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種坩堝。
背景技術(shù)
OLED顯示器件具有自發(fā)光、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、輕薄、響應(yīng)速度快、視角較寬、可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)點(diǎn),目前已在手機(jī)等終端產(chǎn)品中得到廣泛的應(yīng)用。OLED顯示器件現(xiàn)在主要采用真空蒸鍍法制備,其原理為加熱蒸鍍材料至一定溫度,使其升華后透過掩膜板上的開孔沉積在基板上,從而形成OLED顯示器件的膜層。
目前通常采用坩堝對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行加熱,在蒸鍍過程中,蒸鍍材料置于坩堝內(nèi)部,通過設(shè)置在坩堝外部的加熱裝置對(duì)坩堝進(jìn)行加熱,從而使坩堝內(nèi)的蒸鍍材料受熱。在蒸鍍材料的加熱過程中,位于最外層的蒸鍍材料首先受熱,然后再將熱量傳導(dǎo)至內(nèi)部的蒸鍍材料,在坩堝較大或蒸鍍材料較多時(shí),熱量的傳導(dǎo)過程較慢,易導(dǎo)致蒸鍍材料受熱不均,會(huì)使部分過熱的蒸鍍材料產(chǎn)生變性的風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)還易造成坩堝開孔堵塞和降低蒸鍍材料使用率的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供了一種坩堝,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的坩堝易產(chǎn)生蒸鍍材料受熱不均的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下的技術(shù)方案:
一種坩堝,包括坩堝本體,其中:
所述坩堝本體包括第一鍋體和多個(gè)第二鍋體,每個(gè)第二鍋體的體積小于所述第一鍋體;所述第一鍋體具有開口和與所述開口相對(duì)的底面,每個(gè)第二鍋體的一端與所述第一鍋體的底面連接,且每個(gè)第二鍋體的內(nèi)部與所述第一鍋體內(nèi)部連通。
本實(shí)用新型提供的坩堝包括坩堝本體,坩堝本體包括第一鍋體和多個(gè)體積小于第一鍋體的第二鍋體,每個(gè)第二鍋體的一端設(shè)置于第一鍋體的底面且內(nèi)部均與第一鍋體連通;在進(jìn)行蒸鍍材料的加熱時(shí),將蒸鍍材料分別放置于多個(gè)第二鍋體內(nèi),同時(shí)對(duì)每個(gè)第二鍋體內(nèi)的各部分蒸鍍材料進(jìn)行加熱,由于蒸鍍材料被分成了多份且分別進(jìn)行加熱,熱量在每部分蒸鍍材料內(nèi)傳導(dǎo)的速度大于在整份蒸鍍材料內(nèi)傳導(dǎo)的速度,有利于每部分蒸鍍材料的內(nèi)外均勻受熱,改善了蒸鍍材料受熱不均的問題,進(jìn)而改善了部分過熱的蒸鍍材料產(chǎn)生變性、以及易造成坩堝開孔堵塞和降低蒸鍍材料使用率的問題。
優(yōu)選地,還包括設(shè)置于每個(gè)第二鍋體的外部的加熱裝置。
進(jìn)一步地,所述加熱裝置包括設(shè)置于每個(gè)第二鍋體外側(cè)的電熱套。
進(jìn)一步地,所述加熱裝置包括設(shè)置于每個(gè)第二鍋體外側(cè)的電熱絲。
優(yōu)選地,還包括設(shè)置于每個(gè)第二鍋體外部的制冷裝置。
進(jìn)一步地,所述制冷裝置包括設(shè)置于每個(gè)第二鍋體外部的冷媒管路。
優(yōu)選地,沿所述第一鍋體的底面到開口的方向,所述第一鍋體的與所述底面平行的截面的面積逐漸增大。
進(jìn)一步地,所述第一鍋體為圓臺(tái)狀結(jié)構(gòu),且所述第一鍋體的開口所在一端的直徑大于所述第一鍋體的底面所在一端的直徑。
優(yōu)選地,所述坩堝本體還具有蓋合所述第一鍋體的開口的蓋板,所述蓋板上設(shè)有多個(gè)蒸鍍孔。
進(jìn)一步地,所述多個(gè)蒸鍍孔在所述蓋板上陣列分布。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種坩堝的坩堝本體的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種坩堝分解結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種坩堝裝配結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記:
10,坩堝本體;11,第一鍋體;111,開口;112,底面;12,第二鍋體;
20,電熱套;21,容置孔;30,蓋板;31,蒸鍍孔。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
參見圖1所示,本實(shí)施例提供了一種坩堝,包括坩堝本體10,其中:
坩堝本體10包括第一鍋體11和多個(gè)第二鍋體12,優(yōu)選地,圖1所示的第一鍋體11為圓臺(tái)狀結(jié)構(gòu),每個(gè)第二鍋體12為圓柱狀結(jié)構(gòu),具體實(shí)施中,第一鍋體11和第二鍋體12均可采用圓臺(tái)或圓柱狀結(jié)構(gòu),每個(gè)第二鍋體12的體積小于第一鍋體11,在第二鍋體12的體積減小時(shí),由于其內(nèi)部的蒸鍍材料較少,導(dǎo)熱速度較快,會(huì)提高第二鍋體12內(nèi)的蒸鍍材料的加熱速率,具體實(shí)施中,第二鍋體12的體積應(yīng)根據(jù)所需加熱的蒸鍍材料的數(shù)量和加速速率要求進(jìn)行設(shè)置;具體實(shí)施中,第一鍋體11和第二鍋體12不限于圓臺(tái)或圓柱的形狀,例如,第一鍋體11和第二鍋體12的橫截面可為三角形、四邊形或多邊形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720105076.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:線圈部件及具備該線圈部件的電路基板
- 下一篇:射頻線圈
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





