[實用新型]清洗系統及其化學氣相沉積設備有效
| 申請號： | 201720083107.6 | 申請日： | 2017-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN206428324U | 公開（公告）日： | 2017-08-22 |
| 發明（設計）人： | 賴善春 | 申請（專利權）人： | 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清洗 系統 及其 化學 沉積 設備 | ||
1.一種清洗系統，用于真空管道清洗，其特征在于，所述清洗系統包括：
用于檢測所述真空管道內沉積物含量的檢測裝置，設置于所述真空管道上；
用于將能與所述沉積物反應的清潔物質注入所述真空管道的離化裝置，連接所述真空管道；
用于抽吸所述真空管道的抽吸裝置，連接所述真空管道；以及
用于在沉積物的含量超過預設上限值時切斷所述真空管道的開關裝置，設置于所述真空管道上。
2.如權利要求1所述的清洗系統，其特征在于，還包括與所述檢測裝置、離化裝置、抽吸裝置以及開關裝置通訊連接的控制裝置，所述控制裝置用于控制所述開關裝置切斷所述真空管道，以及用于控制所述離化裝置和所述抽吸裝置開啟。
3.如權利要求1所述的清洗系統，其特征在于，所述真空管道包括并聯設置的多個真空管道單元，所述檢測裝置設置于至少一個真空管道單元上，所述離化裝置和抽吸裝置對應連接所述至少一個真空管道單元；其中，所述開關裝置用于切斷所述至少一個真空管道單元并實現剩余真空管道單元中至多一個真空管道單元的連接。
4.如權利要求3所述的清洗系統，其特征在于，所述清洗系統還包括與所述至少一個真空管道單元連接的清掃管道，通過所述清掃管道將清潔氣體注入所述至少一個真空管道單元。
5.如權利要求3所述的清洗系統，其特征在于，與所述至少一個真空管道單元連接的所述離化裝置為多個，所述抽吸裝置通過多個抽吸管路與所述至少一個真空管道單元連接。
6.如權利要求3所述的清洗系統，其特征在于，所述至少一個真空管道單元上設置有多個檢測裝置。
7.如權利要求1所述的清洗系統，其特征在于，所述清潔物質為氟自由基，所述氟自由基與含硅元素的所述沉積物反應生成揮發性物質。
8.一種化學氣相沉積設備，其特征在于，包括沉積腔、真空管道以及真空泵；所述真空管道的一端連接所述沉積腔，另一端連接所述真空泵，且還包括如權利要求1至7中任一項所述的清洗系統。
9.如權利要求8所述的化學氣相沉積設備，其特征在于，所述真空管道包括并聯設置的兩個真空管道單元。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
