[實用新型]一種超材料隱身結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720081996.2 | 申請日: | 2017-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN206401527U | 公開(公告)日: | 2017-08-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張嶺;陳志勇 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢靈動時代智能技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01Q15/00 | 分類號: | H01Q15/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 材料 隱身 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:包括標(biāo)準(zhǔn)行波板和邊緣導(dǎo)電率連續(xù)的電阻膜基材,電阻膜基材帶有齒結(jié)構(gòu),分為電阻膜a、電阻膜b、電阻膜c、電阻膜d,標(biāo)準(zhǔn)行波板一端為直角模塊,另一端為第一矩形模塊;電阻膜a、電阻膜b、電阻膜c、電阻膜d依次配合在形成隱形構(gòu)造的第二矩形模塊,第二矩形模塊與第一矩形模塊連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:電阻膜a的方阻取值范圍為50~75歐姆每方,電阻膜b的方阻取值范圍為75~110歐姆每方,電阻膜c的方阻取值范圍為125~135歐姆每方,電阻膜d的方阻取值范圍為750~780歐姆每方,通過優(yōu)化電阻膜的表面阻值及結(jié)構(gòu)形式來達(dá)到對于目標(biāo)物體表面行波的抑制以達(dá)到隱身效果。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:所述電阻膜a的一端為平滑面,另一端為齒角度為90°的齒結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:所述電阻膜b的兩端均為齒角度是90°的齒結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:所述電阻膜c的一端為齒角度是90°的齒結(jié)構(gòu),另一端為齒角度是127°的齒結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:所述電阻膜d的一端為齒角度是127°的齒結(jié)構(gòu),另一端為平滑面。
7.根據(jù)權(quán)利要求3、4、5、6所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:電阻膜a、電阻膜b、電阻膜c、電阻膜d依次通過齒間隙配合連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求3、4、5、6所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:電阻膜a的齒個數(shù)為4,高度為400mm,寬度為50mm;
電阻膜b的兩端齒個數(shù)均為4,高度為400mm,寬度為100mm;
電阻膜c的兩端齒個數(shù)均為4,高度為400mm,齒寬度為75mm;
電阻膜d的齒個數(shù)為4,高度為400mm,寬度為50mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:標(biāo)準(zhǔn)行波板的長度為1100mm,第一矩形模塊的900mm,高度為400mm;
第二矩形模塊的長度為150mm,高度為400mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超材料隱身結(jié)構(gòu),其特征在于:隱身結(jié)構(gòu)貼覆在支撐結(jié)構(gòu)件表面或夾在支撐結(jié)構(gòu)中間,降低雷達(dá)散射面的隱身效果。
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