[實用新型]一種化學機械拋光用的游星輪有效
| 申請號： | 201720080553.1 | 申請日： | 2017-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN206937073U | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發明（設計）人： | 黃榮燕 | 申請（專利權）人： | 吉姆西半導體科技（無錫）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/30 | 分類號： | B24B37/30 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙)32104 | 代理人： | 曹祖良,屠志力 |
| 地址： | 214194 江蘇省無錫市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 游星 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光用的游星輪，包括輪體，其特征在于，
所述輪體包括上層輪體(201)和下層輪體(202)，在上下兩層輪體中間設有隔板(203)；
在上下兩層輪體中各開出凹槽；在凹槽中設有吸附襯墊(204)；使用時把晶片(1)放置于吸附襯墊(204)，凹槽四周邊沿擋住晶片(1)；
在輪體上開有貫通輪體的通孔(205)，通孔(205)位置避開用于放置晶片(1)的凹槽位置。
2.如權利要求1所述的化學機械拋光用的游星輪，其特征在于，
用于放置晶片(1)的凹槽位置為上下對稱。
3.如權利要求1所述的化學機械拋光用的游星輪，其特征在于，
隔板(203)的厚度為30μm～1mm。
4.如權利要求1所述的化學機械拋光用的游星輪，其特征在于，
用于放置晶片(1)的凹槽深度范圍在30μm～1mm。
5.如權利要求1所述的化學機械拋光用的游星輪，其特征在于，
吸附襯墊(204)厚度20μm～500μm。
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