[實用新型]一種真空鍍膜

有效

• 申請號: 201720079278.1
• 申請日: 2017-01-22
• 公開（公告）號: CN206580879U
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 周斌遷
• 申請（專利權）人: 臺州豪達機電有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C28/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種真空鍍膜，包括真空鍍膜本體，其特征是：所述真空鍍膜本體包括基層以及單面鍍于基層表面的蒸發源層，基層上設有加強層，加強層包括若干第一加強筋以及若干第二加強筋，兩相鄰第一加強筋相互平行設置，兩相鄰第二加強筋相互平行設置，兩相鄰第一加強筋之間的間距與兩相鄰第二加強筋之間的間距相等，兩相鄰第一加強筋和兩相鄰第二加強筋之間相交形成有呈菱形狀的抗拉區，抗拉區包括第一連接點和第二連接點，加強層還包括連接同一抗拉區上第一連接點的第三加強筋，所述基層上還設有散熱層，加強層置于散熱層和基層之間，散熱層上設有若干散熱區，散熱區包括依次連接的第一導熱部、散熱部以及第二導熱部，第一導熱部、散熱部和第二導熱部均呈圓弧狀。

2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜，其特征是：所述第一導熱部、散熱部和第二導熱部連接形成的散熱區的圓弧開口方向朝向加強層。

3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜，其特征是：所述基層的厚度、加強層的厚度以及散熱層三者之間的厚度比值為2:1:1。