[實用新型]一種高濃度鹽霧環境的鹽屋有效
| 申請號: | 201720077343.7 | 申請日: | 2017-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN206572687U | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發明(設計)人: | 隨延衛;彭善忠;趙云鵬 | 申請(專利權)人: | 杭州聚陸醫療器械有限公司 |
| 主分類號: | F24F6/12 | 分類號: | F24F6/12;A61H33/04;E04H1/12;E04F13/00;E04F15/00 |
| 代理公司: | 北京市領專知識產權代理有限公司11590 | 代理人: | 林輝輪 |
| 地址: | 310000 浙江省杭州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 濃度 環境 | ||
1.一種高濃度鹽霧環境的鹽屋,包括屋頂、墻體和地板,其特征在于:所述屋頂、墻體和地板的表面均涂布有礦鹽層,鹽屋內部或外部還設置有至少一個鹽霧發生器,鹽霧發生器將鹽霧均勻輸入到所述鹽屋內。
2.根據權利要求1所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽屋內還設置有鹽霧懸浮控制裝置,鹽霧懸浮控制裝置包括嵌設在所述地板內并向上吹風的風機和嵌設在所述地板內并與所述風機相連的進風管,風機沿所述鹽霧發生器噴出鹽霧軌跡的投影區域均勻布局,進風管導向室外,進風管末端設置空氣凈化裝置。
3.根據權利要求1或2所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽霧發生器為低位鹽霧發生器,低位鹽霧發生器設置在所述鹽屋的內部,低位鹽霧發生器包括外殼、設置在外殼頂部的進鹽口、進鹽口下方的漏斗、設置在漏斗下方的第一螺旋給料器、豎直設置在第一螺旋給料器末端的傳送管、設置在傳送管下方的儲鹽槽、設置在儲鹽槽內的擾動葉輪、設置在傳送管末端的斜下方和儲鹽槽的斜上方的強力風扇以及正對強力風扇并穿出所述外殼側壁的鹽霧噴管,鹽霧噴管斜向上設置,傳送管的末端切削成背對強力風扇的斜面,強力風扇的吹風方向為斜向上,鹽霧噴管的內端設置有集霧罩。
4.根據權利要求3所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述低位鹽霧發生器還包括設置在所述外殼底部的擺動底座,擺動底座由步進電機和傳動機構帶動做往復擺動。
5.根據權利要求4所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽屋的地板為正方形或圓形,所述低位鹽霧發生器為四個,低位鹽霧發生器以所述地板的幾何中心為中心呈圓周陣列分布,低位鹽霧發生器噴出鹽霧的朝向均以相同角度偏離所述地板的幾何中心。
6.根據權利要求5所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述低位鹽霧發生器設置在所述地板上或所述墻體上。
7.根據權利要求1或2所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽霧發生器為高位鹽霧發生器,高位鹽霧發生器懸吊在所述屋頂上,高位鹽霧發生器包括料斗、設置在料斗底部的第二螺旋給料器、水平設置在第二螺旋給料器下方的鹽霧擴散管和設置在鹽霧擴散管前端的鼓風機,鹽霧擴散管前端設置有連通第二螺旋給料器和鹽霧擴散管的豎管,鹽霧擴散管上均勻開設有出霧孔,鹽霧擴散管末端設置活動口蓋。
8.根據權利要求7所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述出霧孔從所述鹽霧擴散管的前端向末端逐漸變大。
9.根據權利要求8所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽屋的屋頂為圓形,所述鹽霧擴散管為螺旋形。
10.根據權利要求1或2所述的高濃度鹽霧環境的鹽屋,其特征在于:所述鹽霧發生器為臥式的U形鹽霧發生器,U形鹽霧發生器設置在所述鹽屋的外部,U形鹽霧發生器的兩端分別為進風口和排風口,進風口設有進氣風扇,U形鹽霧發生器的底殼設有下沉的鹽池,鹽池內設有擾動風扇,排風口和鹽屋之間通過延長管連通;U形鹽霧發生器外部設置操作室。
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