[實用新型]氯乙烯合成過程的脫汞裝置

有效

• 申請號: 201720071452.8
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN206404529U
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 趙清;王玉昌;李俊猛;張學輝;王立信;劉海濤;高東超;周愛存;崔建兵;王成亮;曹瑾;崔旸;趙悅;魏勃濤;劉川;肖國營;周小齊;趙東海;李佳羲;田澤劍;蘇永學;杜建軍;徐建玲;李友光;劉洋
• 申請（專利權）人: 唐山三友氯堿有限責任公司
• 主分類號: B01D53/02
• 分類號: B01D53/02
• 代理公司: 唐山永和專利商標事務所13103
• 代理人: 明淑娟

技術領域

本實用新型涉及一種氯乙烯合成過程用設備，特別是一種氯乙烯合成過程用脫汞裝置。

背景技術

傳統的氯乙烯行業中，脫汞器都采用下進上出的方式通過吸附劑床層，由于在吸附劑的裝填和使用過程中產生的粉末會堆積在下側的進氣板上，會造成堵塞，嚴重影響氣體的通過和脫汞效果，并且造成系統阻力上升，而且會隨著使用時間的延長，粉化程度加劇，阻力上升，為保證系統壓力，就需要更換填料。更換下來得填料，有的部分并未真正吸附汞，造成一定的浪費。

發明內容

本實用新型的目的旨在解決上述氯堿生產過程中傳統脫汞器問題，而提供一種既能避免粉化影響，使氣相暢通，又能增強脫汞效果的裝置。

本實用新型采用如下技術方案：

一種氯乙烯合成過程的脫汞裝置，包括設備本體，置于設備本體頂端的出氣口，置于設備本體底端的排酸口，置于排酸口一側的進氣口，設備本體內設置有雙層環形管路結構：內層環形管路結構和外層環形管路結構，內、外層環形結構管路之間的空間內填充吸附劑，設備本體上設置有吸附劑填裝口和粉末排放口，吸附劑填裝口位于內層環形管路結構與外層環形管路結構之間的設備本體的頂部，粉末排放口位于設備本體內壁與外層環形管路之間的設備本體的底部位置；出氣口所在的出氣口管路底端通過環形結構與內層環形管路結構上的第一內層環形管路結構連接，第一內層環形管路結構通過頂端封閉、底端呈敞開的中封結構與第二內層環形管路結構連接，第二內層環形管路的底端與設備本體上的排酸管路連接；內層環形管路結構和外層環形管路上分別設置有通孔結構；外層環形管路結構呈階梯狀變徑結構：設備本體底端方向的外層環形管路直徑大于設備本體的頂端方向的外層環形管路結構。

采用上述技術方案的本實用新型與現有技術相比，解決了底層粉末堵塞現象，能夠使氣相暢通，又能增加脫汞效果。

本實用新型的優選方案是：

第一內層環形管路結構和第二內層環形管路結構同心設置，第一內層環形管路結構和第二內層環形管路結構分別呈波紋管狀結構。

中封結構呈倒U形結構。

外層環形結構呈波紋管狀結構。

吸附劑填裝口均布設置在設備本體的頂部，粉末排放口均布設置在設備本體底部。

位于雙層環形管路之間的吸附劑填裝口一側的設備本體上設置有測溫口。

外層環形管路結構的階梯狀部位設置在中封結構以上。

置于排酸口一側上方的進氣管路上設置有進氣口，進氣管路與排酸管路呈垂直狀態設置。

附圖說明

圖1是現有技術的結構示意圖。

圖2是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例詳述本實用新型：

一種氯乙烯合成過程的脫汞裝置，參見附圖2，圖中：設備本體1，外層環形管路結構2，內層環形管路結構3，第一內層環形管路301，第二內層環形管路302，粉末排放口4，吸附劑排放口5、進氣口6、排酸口7、排酸管路8，中封結構9、環形結構10、吸附劑填裝口11、出氣口12、出氣口管路13、測溫口14。

本實施例中，設備本體1頂端設置有的出氣口12，出氣口12通過出氣管路13與設備本體1連接。置于設備本體1底端的排酸口7，置于排酸口7一側上方的進氣管路上裝有進氣口6，進氣管路與排酸管路呈垂直狀態設置，這種排氣口結構可以保證不積酸。

設備本體1內設置有雙層環形管路結構：內層環形管路結構3和外層環形管路結構2，內層環形管路結構3和外層環形結構管路2之間的空間內填充吸附劑。

設備本體1上設置有吸附劑填裝口11和粉末排放口，吸附劑填裝口11位于內層環形管路結構3與外層環形管路結構2之間的設備本體1的頂部，粉末排放口4位于設備本體1內壁與外層環形管路結構2之間的設備本體2的底部位置。

出氣口12所在的出氣口管路13底端通過環形結構10與內層環形管路結構上的第一內層環形管路結構301連接，第一內層環形管路結構301通過頂端封閉、底端呈敞開的中封結構9與第二內層環形管路結構302連接，中封結構9呈倒U型結構設置，第二內層環形管路結構302和第一內層環形管路結構301上分別設置有通孔結構（圖2中未示出），通孔直徑大約3mm左右，第二內層環形管路結構302的底端與設備本體1上的排酸管路8連接；內層環形管路結構和外層環形管路結構上分別設置有通孔結構（圖2中未示出）。