[實用新型]一種低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃

有效

• 申請號: 201720067306.8
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN206408120U
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 武瑞軍;崔平生;宋保柱
• 申請（專利權）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司32103
• 代理人: 孫仿衛,陳婷婷

1.一種低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，包括內玻璃基片、外玻璃基片、連接在所述內玻璃基片與外玻璃基片之間的中空層，其特征在于：所述外玻璃基片的內側表面鍍有復合膜層，所述復合膜層由第一鎳鉻層、第一錫酸鋅層、第一氧化鋅層、第一銀層、銅層、第二鎳鉻層、第二錫酸鋅層、第二氧化鋅層、第二銀層、第三鎳鉻層、氮化硅層自所述外玻璃基片的內側面向內依次層疊而成，

其中，所述第一鎳鉻層的厚度為1nm~5nm，所述第一錫酸鋅層與所述第一氧化鋅層的總厚度為30nm~60nm；所述第一銀層的厚度為3nm~6nm；所述銅層的厚度為4nm~8nm；所述第二鎳鉻層的厚度為1nm~3nm；所述第二錫酸鋅層與所述第二氧化鋅層的總厚度為75nm~85nm；所述第二銀層的厚度為8nm~15nm。

2.根據權利要求1所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：所述第三鎳鉻層的厚度為1nm~3nm，所述氮化硅層的厚度為30nm~50nm。

3.根據權利要求1所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：所述第一鎳鉻層的厚度為2nm~3nm。

4.根據權利要求1所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：所述第一錫酸鋅層層與所述第一氧化鋅層的總厚度為35nm~45nm，其中，所述第一錫酸鋅層的厚度、所述第一氧化鋅層的厚度均大于5nm。

5.根據權利要求1所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：所述第二錫酸鋅層的厚度、所述第二氧化鋅層的厚度均大于10nm。

6.根據權利要求1至5任一所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：第一鎳鉻層的厚度為2.5nm，所述第一鎳鉻層與所述第一錫酸鋅層的總厚度為40nm，所述第一銀層的厚度為4.8nm，所述銅層的厚度為6.3nm，所述第二鎳鉻層的厚度為1.7nm，所述第二錫酸鋅層與所述第二氧化鋅層的總厚度為80nm，所述第二銀層的厚度為12.5nm，所述第三鎳鉻層的厚度為1.9nm，所述氮化硅層的厚度為40nm。

7.根據權利要求1至5任一所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：第一鎳鉻層的厚度為2.6nm，所述第一鎳鉻層與所述第一錫酸鋅層的總厚度為44nm，所述第一銀層的厚度為5.7nm，所述銅層的厚度為5.5nm，所述第二鎳鉻層的厚度為1.5nm，所述第二錫酸鋅層與所述第二氧化鋅層的總厚度為81nm，所述第二銀層的厚度為12.2nm，所述第三鎳鉻層的厚度為2.1nm，所述氮化硅層的厚度為41nm。

8.根據權利要求1至5任一所述的低反射雙銀低輻射鍍膜中空玻璃，其特征在于：第一鎳鉻層的厚度為2.0nm，所述第一鎳鉻層與所述第一錫酸鋅層的總厚度為35nm，所述第一銀層的厚度為4.0nm，所述銅層的厚度為7.8nm，所述第二鎳鉻層的厚度為1.3nm，所述第二錫酸鋅層與所述第二氧化鋅層的總厚度為78nm，所述第二銀層的厚度為11.5nm，所述第三鎳鉻層的厚度為1.5nm，所述氮化硅層的厚度為43nm。