[實用新型]一種結構位移監測系統

有效

• 申請號: 201720067030.3
• 申請日: 2017-01-18
• 公開（公告）號: CN206479140U
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 周光毅;趙雪峰;韓瑞聰;李生元;白羽;王志強;趙傳瑩;王超;劉文斗;孔令杰
• 申請（專利權）人: 中國建筑第八工程局有限公司;大連理工大學
• 主分類號: G01B11/03
• 分類號: G01B11/03;G01B11/16
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司31229
• 代理人: 曾耀先

1.一種結構位移監測系統，其特征在于，包括光線發射裝置、光線接收裝置、光斑位移測量裝置和結構位移計算裝置，所述光線發射裝置用于安裝在被監測結構上，所述光線接收裝置具有光線投射平面，所述光線發射裝置朝向所述光線投射平面設置用于發射光線至所述光線投射平面上形成光斑，所述光線投射平面與所述光線成角度α設置，所述光斑位移測量裝置朝向所述光線投射平面設置用于測量所述光斑在一段時間間隔內在所述光線投射平面上的光斑位移z，所述光斑位移測量裝置與所述結構位移計算裝置信號連接用于將所述光斑位移z發送至所述結構位移計算裝置，所述結構位移計算裝置用于根據所述光斑位移z和所述角度α計算所述被監測結構在所述時間間隔內在與所述光線垂直的方向上的結構位移x＝z*Sinα。

2.如權利要求1所述的結構位移監測系統，其特征在于，所述光線發射裝置是激光發射裝置。

3.如權利要求1所述的結構位移監測系統，其特征在于，所述光線接收裝置是光線接收板，所述光線投射平面是所述光線接收板的其中一個表面。

4.如權利要求1所述的結構位移監測系統，其特征在于，所述光斑位移測量裝置包括圖像拍攝部件和圖像處理分析模塊，所述圖像拍攝部件朝向所述光線投射平面設置用于在所述時間間隔開始和結束時對所述光線投射平面上包含所述光斑的區域分別拍攝第一圖像和第二圖像，所述圖像拍攝部件與所述圖像處理分析模塊信號連接用于將所述第一圖像和所述第二圖像發送至所述圖像處理分析模塊，所述圖像處理分析模塊用于對所述第一圖像和所述第二圖像進行分析從而獲得所述光斑位移z。

5.如權利要求4所述的結構位移監測系統，其特征在于，所述圖像拍攝部件是照相機。

6.如權利要求1所述的結構位移監測系統，其特征在于，所述角度α為銳角。