[實用新型]化學機械拋光工藝拋光墊的修整器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720065844.3
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN206464992U
• 公開（公告）日: 2017-09-05
• 發(fā)明（設計）人: 黃榮燕
• 申請（專利權）人: 吉姆西半導體科技（無錫）有限公司
• 主分類號: B24B53/017
• 分類號: B24B53/017
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙)32104
• 代理人: 曹祖良,屠志力

1.一種化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，包括外殼(1)和修整輪(2)；

所述修整輪(2)通過轉軸(3)安裝在外殼(1)上，修整輪(2)的下部突出于外殼(1)下部開口；修整輪(2)包括轉輪(201)和磨粒(202)；磨粒(202)分布于轉輪(201)的周向表面；

還包括空洞或噴嘴(4)，用于分別連接高壓氣管或高壓水管；空洞或噴嘴(4)設置在外殼(1)兩側邊緣，或者，在外殼(1)的兩側外側單獨設置管路，單獨設置的管路端頭設有空洞或噴嘴(4)。

2.如權利要求1所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

外殼(1)上還設有功能性部件(5)。

3.如權利要求2所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

所述功能性部件(5)為檢測拋光墊(100)轉速的光學感應器。

4.如權利要求2所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

所述功能性部件(5)為連接在外殼(1)下部開口處邊緣的高度調節(jié)部件。

5.如權利要求1所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

磨粒(202)的露頭是尖的或平的。

6.如權利要求5所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

磨粒(202)的露頭尖的和平的平均分布，或者是分不同陣列，一個陣列是尖的，另一個陣列是平的。

7.如權利要求5所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

磨粒(202)的露頭高度是一樣的，或是尖的露頭高于平的露頭，或是平的露頭高于尖的露頭。

8.如權利要求1所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

轉輪(201)由驅動部件帶動，驅動部件為電動馬達或高壓氣動馬達。

9.如權利要求1所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

空洞或噴嘴(4)是一層或是多層，或者按不同高度排布；噴射方向平行于轉輪(201)側平面，或是跟轉輪側平面呈一定角度。

10.如權利要求1所述的化學機械拋光工藝拋光墊的修整器，其特征在于，

外殼(1)上面設有把手(6)。