[實(shí)用新型]一種電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720060777.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206408035U | 公開(公告)日: | 2017-08-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫瑜;馮超;董恩輝;王琳濤;張欣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電信科學(xué)技術(shù)儀表研究所 |
| 主分類號(hào): | C02F9/08 | 分類號(hào): | C02F9/08;C02F101/16;C02F101/20;C02F101/30 |
| 代理公司: | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11278 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 101149*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電路板 組裝 清洗 廢液 水處理 系統(tǒng) | ||
1.一種電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,包含:電路板組裝件清洗單元、電路板組裝件清洗廢液收集單元、硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元、電化學(xué)處理單元、過濾與膜凈化單元、終端消毒中和單元,
其中,電路板組裝件清洗廢液收集單元用于收集電路板組裝件清洗廢液,其與電路板組裝件清洗單元和硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元流體連接;硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元用于對(duì)收集到的電路板組裝件清洗廢液進(jìn)行硅藻土物理吸附沉降處理并且將經(jīng)過處理的清洗廢液中的可回收的有效成分、無用成分和部分難以回收的有效成分分離出來,可回收的有效成分經(jīng)過處理后被提供至電路板組裝件清洗單元,用于清洗電路板組裝件,無用成分和部分難以回收的有效成分被依次提供至流體連接的電化學(xué)處理單元、過濾與膜凈化單元、終端消毒中和單元,經(jīng)過處理之后最終達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)而排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元包括容器、攪拌槳、進(jìn)液管、第一出液管、第二出液管和硅藻土,
其中,攪拌槳位于容器的內(nèi)部中央,與驅(qū)動(dòng)裝置相連;進(jìn)液管位于容器上方,與電路板組裝件清洗廢液收集單元流體連接,以便于加入清洗廢液;第一出液管和第二出液管分別用于分離經(jīng)過處理之后位于容器不同位置處的液體;硅藻土位于容器中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元還包括位于容器上方的加藥裝置,以用于加入硅藻土、稀硫酸和絮凝劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,硅藻土吸附回收和預(yù)沉淀單元中的硅藻土是經(jīng)過控制pH和高溫?zé)Y(jié)改性的硅藻土。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,電化學(xué)處理單元包含高低電位芬頓催化氧化處理裝置,以通過芬頓高級(jí)電氧化法產(chǎn)生的具有高活性的羥基自由基來氧化分解清洗廢液中的有機(jī)雜質(zhì)成分。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,過濾與膜凈化單元包含由含卵石層、蛭石層、石英砂層組成的三級(jí)過濾層和聚丙烯膜凈化系統(tǒng),以吸附和過濾電解后廢液中的雜質(zhì)成分。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,終端消毒中和單元包含終端pH調(diào)節(jié)裝置和多程消毒裝置,以采用紫外燈對(duì)廢液進(jìn)行消毒并且采用酸溶液將廢液pH調(diào)節(jié)到接近中性。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,第一出液管一端位于容器側(cè)壁的一定高度處,用于抽取無用成分和部分難以回收的有效成分。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,第一出液管一端從容器上方插入到容器中的一定高度處,用于抽取無用成分和部分難以回收的有效成分。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電路板組裝件清洗廢液的水處理系統(tǒng),其特征在于,第二出液管一端被設(shè)置在靠近容器底部的側(cè)壁上,位于第一出液管管口下方一定位置處。
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