[實用新型]一種大尺度自支撐鈹薄膜的制備裝置

有效

• 申請號: 201720060159.1
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN206396319U
• 公開（公告）日: 2017-08-11
• 發明（設計）人: 李愷;吳衛東;羅炳池;羅江山;張吉強;譚秀蘭;李文琦;金雷;何玉丹
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/58
• 代理公司: 綿陽市博圖知識產權代理事務所(普通合伙)51235
• 代理人: 鄧昉

1.一種大尺度自支撐鈹薄膜的制備裝置，其特征在于：包括沉積室（1），所述沉積室（1）內上部設置有基片架（2），所述基片架（2）底部設置有基片（3），所述基片（3）下方設置有擋板（4），所述沉積室（1）內下部還設置有坩堝(6)、 Ta蒸發舟（7）及電極（8），所述坩堝(6)、 Ta蒸發舟（7）均固定在電極（8）上，坩堝(6)位于 Ta蒸發舟（7）內，所述電極（8）通過電源（10）供電，所述坩堝(6)底部還設置有熱電偶（11），所述沉積室（1）還連接真空系統（9）。

2.根據權利要求1所述的一種大尺度自支撐鈹薄膜的制備裝置，其特征在于：所述坩堝(6)采用BN材料或BeO材料。

3.根據權利要求1所述的一種大尺度自支撐鈹薄膜的制備裝置，其特征在于：所述電極(8)為高純Cu材料。

4.根據權利要求1所述的一種大尺度自支撐鈹薄膜的制備裝置，其特征在于：所述基片（3）為載玻片。