[實用新型]一種雙面對位曝光裝置及含有該裝置的激光直寫設備有效
| 申請號： | 201720053360.7 | 申請日： | 2017-01-16 |
| 公開（公告）號： | CN206479769U | 公開（公告）日： | 2017-09-08 |
| 發明（設計）人： | 傅志偉 | 申請（專利權）人： | 上海譽刻智能裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司23211 | 代理人： | 彭素琴 |
| 地址： | 201612 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 雙面 對位 曝光 裝置 含有 激光 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述雙面對位曝光裝置包括樣品承載裝置和分別位于樣品承載裝置兩側的對位裝置和曝光裝置。
2.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述樣品承載裝置為不影響對位裝置和曝光裝置對樣品兩面同時作用的裝置。
3.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述樣品承載裝置為透明的承載裝置、磁懸浮裝置，或者其他任何能夠對樣品起到支撐作用且不會對曝光區域和對位識別區域產生遮擋的裝置。
4.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述樣品承載裝置為兩層透明的承載裝置。
5.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述對位裝置為一種圖像識別光路系統。
6.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述對位裝置為CCD相機。
7.根據權利要求1所述的雙面對位曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置包括有DMD組件或多棱鏡組件。
8.一種激光直寫設備，其特征在于，所述激光直寫設備含有權利要求1～7任一所述雙面對位曝光裝置。
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