[實用新型]氣體管線防堵塞裝置

有效

• 申請號: 201720053313.2
• 申請日: 2017-01-17
• 公開（公告）號: CN206478381U
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 江敏
• 申請（專利權）人: 德山化工（浙江）有限公司
• 主分類號: F16L55/24
• 分類號: F16L55/24
• 代理公司: 上海大邦律師事務所31252
• 代理人: 陳宏

技術領域

本實用新型涉及一種在含有氯硅烷以及惰性氣體的微量氣體流通的氣體管線出口，防止因氯硅烷水解生成二氧化硅，導致氣體管線堵塞的裝置。

背景技術

三氯硅烷和四氯化硅等的氯硅烷會和空氣中的水分發生水解，產生氯化氫和二氧化硅。因此，例如設置在含有氯硅烷儲槽中的攪拌裝置上，大部分會使用機械密封、軸封。一般在機械密封部，作為密封氣體會導入氮氣等的惰性氣體，防止氯硅烷等的物質流入到軸封部。但從軸封部會有微量的氯硅烷流入密封氣體，上述密封氣體流通的氣體管線出口會含有微量的氯硅烷。因此，像上述密封氣體就需要和連接了除害設備的氣體吸引管線連接。

但如果將流通密封氣體的氣體管線和氣體吸引管線直接連接，機械密封部會減壓，內部的氯硅烷容易混入到密封氣體中。因此，通常氣體管線的出口和氣體吸引管線入口會拉開距離安裝，使密封氣體能夠維持正壓。

上述連接方法，氣體管線出口附近是空氣氛圍，因此密封氣體中的氯硅烷和空氣中的水分會反應，在氣體管線出口會產生二氧化硅。存在生成的二氧化硅堆積在氣體管線出口，最終導致堵塞，密封氣體無法流通，機械密封破損的問題。

為了防止堵塞，也可以擴大氣體管線的直徑，但因氣體管線出口的密封氣體流速變慢，和空氣的接觸時間增加，二氧化硅生成量會更多，所以雖然可以延長到發生堵塞時的時間，但不能根本的解決問題。另外增設管線需要很大的空間，且還有費用高等問題。

因此，在含有氯硅烷氣體和惰性氣體的微量氣體排放的氣體管線出口，最好有能夠防止因氯硅烷水解產生二氧化硅，而導致管線堵塞的裝置。

實用新型內容

本實用新型提供了一種氣體管線防堵塞裝置，設置在排放含有氯硅烷氣體和惰性氣體的微量氣體的氣體管線出口的管線防堵塞裝置，包括以下幾個部分：

氣體管線的出口向上設計的氣體出口Ａ；

惰性氣體保有室Ｂ，其上端和氣體管線的出口A有間隙，其下端設置在氣體管線的出口A的下方，其內部為在氯硅烷和惰性氣體氛圍；

氣體防擴散室Ｃ，從外部完全包覆惰性氣體保有室Ｂ，其上部和氣體吸引管線E連接。

在含有氯硅烷氣體和惰性氣體的微量氣體排放的氣體管線出口，通過安裝本發明中的管線防堵塞裝置，在氣體管線出口，氣體中含有的氯硅烷不會和空氣中的水分接觸，氣體管線出口不會生成二氧化硅，可以防止氣體管線出口堵塞。

惰性氣體保有室Ｂ的外側和氣體防擴散室Ｃ內側的一部分，通過支柱F來連接。

所述氣體管線防堵塞裝置的入口，通過連接器D與氣體管線連接。可以進行分解，方便清掃。

附圖說明

圖1為氣體管線防堵塞裝置主視示意圖；

圖2為氣體管線防堵塞裝置的俯視示意圖；

圖3為現有技術示意圖。

符號說明：Ａ．氣體管線的出口、Ｂ．惰性氣體保有室、Ｃ．氣體防擴散室、Ｄ．連接器、Ｅ．氣體吸引管線、Ｆ．支柱。

具體實施方式

下面結合具體實施方式和附圖對本實用新型作進一步詳細的說明，應理解，這些實施形態僅用于對本實用新型進行進一步說明，不能理解為對本實用新型保護范圍的限制。

本實用新型涉及一種設置在含有氯硅烷氣體和惰性氣體的微量氣體排出氣體管線的出口的管線防堵塞裝置。

具體有以下幾個部分組成：

氣體管線的出口向上設計的氣體出口A；

上端和氣體管線的出口有間隙，下端設置在氣體管線的出口的下方，內部在氯硅烷和惰性氣體氛圍中的惰性氣體保有室B；

從外部完全包覆惰性氣體保有室，上部和吸引管線連接的氣體防擴散室C。

是一種氣體管線防堵塞裝置。

氣體管線是通機械密封氣體的氣體管線，一般在φ６～１２ｍｍ左右。氣體管線的出口A是向上的，在本實用新型中所述的氣體管線防堵塞裝置的入口，通過連接器D連接，可以進行分解，方便清掃。

氣體管線的出口A被惰性氣體保有室Ｂ所包覆。惰性氣體保有室的上端和氣體管線出口的距離一般是２０～１００ｍｍ，惰性氣體保有室下端和氣體管線出口A的距離是１００～２００ｍｍ。惰性氣體保有室會一直充滿含有氯硅烷以及氮氣的密封氣體，不存在空氣。因此，在氣體管線出口，不會因氯硅烷和空氣中的水分反應生成二氧化硅，所以氣體管線出口也不會因二氧化硅而發生堵塞。

氣體防擴散室Ｃ，將密封氣體導入氣體吸引管線時所需要。如果沒有氣體防擴散室，氯硅烷和空氣中的水分反應生成的氯化氫，就不能充分的被吸引除害裝置吸引。