[實用新型]一種皮革污水處理池有效
| 申請號: | 201720032637.8 | 申請日: | 2017-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN206553210U | 公開(公告)日: | 2017-10-13 |
| 發明(設計)人: | 徐壽春;丁友新;龔道進 | 申請(專利權)人: | 浙江深夢皮革科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/00 | 分類號: | C02F1/00;C02F103/24 |
| 代理公司: | 嘉興永航專利代理事務所(普通合伙)33265 | 代理人: | 蔡鼎 |
| 地址: | 314400 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 皮革 污水處理 | ||
技術領域
本發明屬于機械技術領域,涉及一種皮革污水處理池。
背景技術
制革工業生產一般包括脫脂、軟化、鞣制、染色加工、干燥、整飾等幾個工段,加工過程中需要添加多種化學品,從而使得廢水中含有油脂、膠原蛋白、動植物纖維、有機無機固形物、硫化物、鉻、鹽類、表面活性劑、染料等多種污染物質和有毒物質。目前的廢水處理工藝,通常都會采用預處理系統,其主要包括格柵、調節池、沉淀池、氣浮池等處理設施。
中國專利CN 202427209U公開了一種高凈化率豎流式沉淀池,其包括殼體和設置在殼體中心的中心管,殼體的上部為圓筒狀,下部為錐筒狀,殼體的圓筒狀部分分隔為集水區和沉淀區,在集水區和沉淀區之間設有填料層,在中心管的下端口通過若干呈放射狀分布的弧形葉片連接傘狀反射板。
上述方案雖然可增加污水中懸浮物的沉降時間,提高沉淀效果,并通過填料層的二次截留使水的凈化程度提高,但仍存在以下缺陷:由于填料層中具有較多的間隙供水通過,但使用時間較長后,污水中的懸浮物容易貼附于填料層的下表面處,從而影響填料層的凈化作用,進而降低整個沉淀池的污水處理效率。
發明內容
本發明的目的是針對現有的技術存在上述問題,提出了一種皮革污水處理池,本發明所要解決的技術問題是:如何提高污水處理池的污水處理效率。
本發明的目的可通過下列技術方案來實現:
一種皮革污水處理池,所述污水處理池包括筒體,所述筒體內開設有空腔,所述空腔內插設有中心管,所述筒體的側壁上設置有與所述中心管相連通的進污水管,所述中心管的下端設置有反射板,所述筒體的底部設置有與所述空腔相連通的排渣管,所述空腔的上部具有集水槽,所述筒體的側壁上開設有與集水槽相連通的排污水管,所述集水槽與反射板之間設置有填料層,其特征在于,所述填料層與集水槽之間設置有若干組清洗組件,所述清洗組件包括若干個設置于所述中心管的管壁上的噴頭,所述噴頭的噴射方向朝向所述填料層,所述空腔內設置有與所述噴頭相連通的進液管,所述筒體的外側壁上設置有與所述進液管相連通的增壓泵。
其工作原理如下:本皮革污水處理池在使用時,污水通過進污水管進入中心管,中心管內的污水通過反射板均勻流至筒體底部,水面慢慢上升,并通過填料層進行凈化,將懸浮物濾下,最終流至集水槽內,并通過排污水管排出,沉淀下來的雜質通過排渣管排出;使用一段時間后,可通過增壓泵將清洗液輸送至噴頭處,對填料層進行沖洗,將粘附于填料層上的雜質沖下,避免堵塞填料層上的間隙,提高污水處理池的污水處理效率。本設計中填料層的具體結構及材料是本領域的公知常識,在背景技術中引用的專利文件中也有提及,在此不加以贅述。
在上述的一種皮革污水處理池中,所述進液管套設于所述中心管上,且兩者之間形成供清洗液流動的環形腔,所述噴頭與環形腔相連通。增壓泵將清洗液輸送至環形腔內,并通過噴頭噴出。
在上述的一種皮革污水處理池中,各所述清洗組件均包括6個噴頭,所述噴頭包括呈板狀的連接管,所述連接管的內端固定于進液管上且與所述環形腔相連通,所述連接管的外端懸空設置,所述連接管朝向填料層的一面開設有若干個出液孔。將噴頭設計 成板狀,清洗液可依次通過進液管、連接管、出液孔排出,對填料層進行清洗;將噴頭設計為板狀,可對水中的懸浮物進行進一步的阻隔,提高污水處理效果。
在上述的一種皮革污水處理池中,所述清洗組件有若干組,各清洗組件沿進液管的長度方向均勻分布,各清洗組件中的連接管與其相鄰的清洗組件上的連接管交錯分布。各清洗組件中的連接管交錯分布,可進一步提高阻隔懸浮物的效果,提高污水處理效率。
與現有技術相比,本皮革污水處理池具有以下優點:
1、本皮革污水處理池可通過增壓泵將清洗液輸送至噴頭處,對填料層進行沖洗,將粘附于填料層上的雜質沖下,避免堵塞填料層上的間隙,提高污水處理池的污水處理效率。
2、噴頭設計成板狀,清洗液可依次通過進液管、連接管、出液孔排出,對填料層進行清洗;將噴頭設計為板狀,可對水中的懸浮物進行進一步的阻隔,提高污水處理效果;
3、各清洗組件中的連接管交錯分布,可進一步提高阻隔懸浮物的效果,提高污水處理效率。
附圖說明
圖1是皮革污水處理池的結構示意圖。
圖2是清洗組件的結構示意圖。
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