[實用新型]無源輻射器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720015403.2 | 申請日： | 2017-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN206759710U | 公開（公告）日： | 2017-12-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | B.斯特林;G.韋爾弗爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 哈曼國際工業(yè)有限公司 |
| 主分類號： | H04R9/06 | 分類號： | H04R9/06;H04R9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所11105 | 代理人： | 陳麗來 |
| 地址： | 美國康*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 無源 輻射器 | ||
1.一種無源輻射器，其特征在于包括：
膜片，所述膜片具有前表面；
正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)聯(lián)接到所述膜片并且具有不在所述膜片的所述前表面上方延伸的環(huán)形凸面；以及
背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)聯(lián)接到所述膜片并且取向成為所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的鏡像，使得所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的環(huán)形表面相對于所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的所述環(huán)形凸面倒置。
2.如權(quán)利要求1所述的無源輻射器，其特征在于所述無源輻射器的縱向重心設(shè)置在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間。
3.如權(quán)利要求2所述的無源輻射器，其特征在于進(jìn)一步包括在縱向上從所述膜片偏移的平衡質(zhì)量塊，從而將所述縱向重心限定為在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間等距。
4.如權(quán)利要求3所述的無源輻射器，其特征在于所述平衡質(zhì)量塊由重量與所述膜片大體相等的環(huán)形成。
5.如權(quán)利要求1所述的無源輻射器，其特征在于進(jìn)一步包括在所述膜片的縱向壁中形成的穿孔，以使在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間限定的空腔中的壓力均衡。
6.如權(quán)利要求5所述的無源輻射器，其特征在于在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間限定的所述空腔具有雙曲線截面。
7.如權(quán)利要求5所述的無源輻射器，其特征在于正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)頂峰表面面向背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)頂峰表面，以限定所述空腔的狹窄中間部分。
8.如權(quán)利要求1所述的無源輻射器，其特征在于所述無源輻射器具有大體成圓形的輪廓。
9.如權(quán)利要求1所述的無源輻射器，其特征在于所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)和所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)形成為環(huán)，并且在內(nèi)表面附接到所述膜片而在外表面附接到框架。
10.一種無源輻射器，其特征在于包括：
膜片，所述膜片具有前表面；
正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)聯(lián)接到所述膜片并且具有形成正面溝槽的環(huán)形凸面；以及
背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)聯(lián)接到所述膜片并且取向成為所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的鏡像，使得所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的環(huán)形表面具有正面頂峰，
其中所述正面溝槽和所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的所述正面頂峰經(jīng)取向以限定具有雙曲線截面的空腔。
11.如權(quán)利要求10所述的無源輻射器，其特征在于進(jìn)一步包括在縱向上從所述膜片偏移的平衡質(zhì)量塊，從而將縱向重心限定為在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間等距。
12.如權(quán)利要求11所述的無源輻射器，其特征在于所述平衡質(zhì)量塊由重量與所述膜片大體相等的環(huán)形成。
13.如權(quán)利要求10所述的無源輻射器，其特征在于進(jìn)一步包括在所述膜片的縱向壁中形成的穿孔，以使在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間限定的所述空腔中的壓力均衡。
14.如權(quán)利要求10所述的無源輻射器，其特征在于所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的頂峰表面面向所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的所述正面頂峰，以限定所述空腔的狹窄中間部分。
15.一種無源輻射器，其特征在于包括：
輻射架構(gòu)，所述輻射架構(gòu)具有限定前表面的膜片；
正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)沿著所述膜片聯(lián)接到所述輻射架構(gòu)，所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)具有形成正面溝槽的環(huán)形凸面；
背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)，所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)在縱向上從所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)偏移并且聯(lián)接到所述架構(gòu)，并且取向成為所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的鏡像，使得所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)的環(huán)形表面具有正面頂峰；以及
平衡質(zhì)量塊，所述平衡質(zhì)量塊聯(lián)接到所述架構(gòu)并且從膜片質(zhì)量塊偏移縱向距離，使得所述無源輻射器的重心在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間等距。
16.如權(quán)利要求15所述的無源輻射器，其特征在于進(jìn)一步包括在所述縱向上從所述膜片延伸的所述輻射架構(gòu)的縱向壁中形成的穿孔，其中所述穿孔使在所述正面環(huán)繞結(jié)構(gòu)與所述背面環(huán)繞結(jié)構(gòu)之間限定的空腔中的壓力均衡。
17.如權(quán)利要求16所述的無源輻射器，其特征在于所述平衡質(zhì)量塊由重量與所述膜片大體相等的環(huán)形成。
18.如權(quán)利要求15所述的無源輻射器，其特征在于所述正面溝槽和背面頂峰取向成限定具有雙曲線截面的空腔。
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