[實用新型]一種用于中子散射實驗的溫度加載裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720014091.3 | 申請日: | 2017-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN206339502U | 公開(公告)日: | 2017-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 龐蓓蓓;孫光愛;李新喜;屠小青;閆冠云;王燕;黃朝強;龔建 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院核物理與化學(xué)研究所 |
| 主分類號: | G01N23/20 | 分類號: | G01N23/20 |
| 代理公司: | 中國工程物理研究院專利中心51210 | 代理人: | 翟長明,韓志英 |
| 地址: | 621999 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 中子 散射 實驗 溫度 加載 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于中子散(衍)射應(yīng)用中的環(huán)境加載技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于中子散射實驗的溫度加載裝置。
背景技術(shù)
中子散(衍)射技術(shù)具有無損檢測和深穿透特性,可對材料的內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)、界面結(jié)構(gòu)、內(nèi)部缺陷等特性進行直接測量,而材料的很多特性會受到所處溫度環(huán)境的影響而發(fā)生變化,為了研究溫度對材料特性的影響,需要利用原位溫度加載裝置改變被測樣品的溫度環(huán)境,再使用中子散(衍)射譜儀測量材料受溫度影響的變化機制。由于中子測量實驗現(xiàn)場存在中子、伽瑪射線,為了降低照射劑量,實驗人員往往將多個樣品放置在樣品臺上,通過改變樣品臺位置切換測量樣品。而若開展多個樣品的原位溫度實驗,則需要實驗人員手動將多個測量樣品依次放置于溫度加載腔內(nèi),增加了實驗人員的勞動強度、射線照射風(fēng)險,同時較長的人工操作時間也造成了中子束流的浪費。
目前,中子散(衍)射技術(shù)正處于起步階段,原位環(huán)境設(shè)備的設(shè)計也較少。中國專利文獻庫公開了名稱為《一種用于中子衍射技術(shù)的原位應(yīng)力-溫度加載裝置》的中國專利(專利號:201310032334)和名稱為《一種用于中子衍射的原位溫度加載裝置》的中國專利(專利號:201520986073.2)都涉及用于中子衍射的原位溫度加載裝置,但是,此兩項專利中的原位溫度加載裝置對多個樣品進行溫度加載時,都需要實驗人員手動更換測量樣品,兩項專利都不具備自動換樣功能。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于中子散射實驗的溫度加載裝置。
本實用新型的用于中子散射實驗的溫度加載裝置,其特點是:所述的裝置包括加熱爐、平移樣品臺、氣動升降支架;所述的加熱爐包括爐體腔體、入射窗口板、出射窗口板、水冷管,所述的平移樣品臺包括伺服電缸、樣品臺面、樣品臺底座,所述的氣動升降支架包括升降氣缸、高位置限位開關(guān)、低位置限位開關(guān)、活動支架、升降底座;
所述的爐體腔體上開設(shè)中子入射孔、中子出射孔,底部開設(shè)樣品裝入孔;其連接關(guān)系是,入射窗口板、出射窗口板依次固定在爐體腔體的中子入射孔、中子出射孔的外部,水冷管安裝在爐體腔體的樣品裝入孔的外部周邊;樣品臺面固定安裝在伺服電缸上,伺服電缸安裝在樣品臺底座上,樣品臺底座安裝在地面上;活動支架與升降氣缸的活動端連接,高位置限位開關(guān)、低位置限位開關(guān)從上至下固定安裝在升降氣缸的行程高位置、低位置,升降氣缸安裝在升降底座上; 爐體腔體上部與活動支架固定連接,升降底座安裝在伺服電缸側(cè)面的地面上,爐體腔體位于樣品臺面的正上方。
所述的爐體腔體為一長方體,內(nèi)部鋪設(shè)加熱絲,并填充保溫纖維材料。
所述的入射窗口板、出射窗口板采用純鋁或藍寶石制作,中子源為冷中子時入射窗口板、出射窗口板采用藍寶石材料制作,中子源為熱中子時入射窗口板、出射窗口板采用純鋁材料制作。
所述的水冷管選用銅或鋁或不銹鋼材料中的一種,水冷管兩端加工有螺紋,通過快接接頭與循環(huán)水管連接,在進行300℃及以下的高溫實驗時,水冷管通過循環(huán)水管連接到普通水泵上,在進行300℃以上的高溫試驗時,水冷管通過循環(huán)水管連接到帶制冷功能的恒溫水泵上。
所述的樣品臺面上有N個樣品固定支架,相鄰樣品固定支架的間距L與爐體腔體的寬度W之間的關(guān)系滿足:L-0.5W≥20mm。
所述的伺服電缸在水平方向平移,平移方向與中子束流垂直,伺服電缸的行程范圍S=N×L。
所述的升降氣缸為單活塞桿氣缸,當(dāng)壓縮氣體進入時,升降氣缸帶動活動支架上升至活動支架觸碰到高位置限位開關(guān)后停止;壓縮氣體供給中斷后,升降氣缸帶動活動支架下降至活動支架觸碰到低位置限位開關(guān)后停止,爐體腔體底部的水冷管位于樣品臺面上方的1mm處。
本實用新型的用于中子散射實驗的溫度加載裝置的工作過程為:
a.升降氣缸接通壓縮氣體,爐體腔體隨升降氣缸上升,進而活動支架觸碰到高位置限位開關(guān),上升運動停止;
b.伺服電缸帶動樣品臺面進行水平移動,使固定在樣品臺面的其中一個樣品到達束流位置后,水平運動停止;
c.中斷升降氣缸的壓縮氣體,爐體腔體在隨升降氣缸下降,活動支架觸碰到低位置限位開關(guān),下降運動停止,此時爐體腔體的底部恰好處于樣品臺面上方1mm位置;
d.加熱爐開始對被測樣品進行加熱,同時循環(huán)水回路開始工作,加熱至設(shè)定溫度后便可進行樣品的中子測量。
對于多個樣品的中子散(衍)射高溫實驗,只需重復(fù)上述步驟a-d便可實現(xiàn)。
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