[實用新型]一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720009404.6 | 申請日： | 2017-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN206370612U | 公開（公告）日： | 2017-08-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 韋國興;何偉峰;曲魯杰;陳良伢 | 申請（專利權(quán)）人： | 中山優(yōu)盛光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01S5/024 | 分類號： | H01S5/024 |
| 代理公司： | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11350 | 代理人： | 孫海英 |
| 地址： | 528437 廣東省中山市火炬*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 新型 大功率 高精度 450 nm 激光 光源 系統(tǒng) | ||
1.一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，包括風(fēng)冷模塊（1）、半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）、激光模塊（3）和水冷模塊（4），其特征在于，所述激光模塊（3）采用450nm激光光源，所述激光模塊（3）上安裝有半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）和水冷模塊（4），所述水冷模塊（4）作用于激光模塊（3），且水冷模塊（4）寬幅調(diào)節(jié)激光模塊（3）的溫度，所述半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）作用于激光模塊（3），且半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）精確調(diào)節(jié)激光模塊（3）的溫度，所述半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）上安裝有風(fēng)冷模塊（1），所述風(fēng)冷模塊（1）作用于半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2），且風(fēng)冷模塊（1）寬幅調(diào)節(jié)半導(dǎo)體TEC制冷模塊（2）的溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，其特征在于，所述激光模塊（3）為二極管激光器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，其特征在于，所述風(fēng)冷模塊（1）設(shè)有多組，且至少有兩組，風(fēng)冷模塊（1）呈直線排列或者圓周排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型大功率高精度450nm激光光源系統(tǒng)，其特征在于，所述風(fēng)冷模塊（1）為制冷壓縮機，水冷模塊（4）為激光水冷機。
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