[發明專利]一種密封蓋及采用該密封蓋的容器

在審

• 申請號: 201711498169.4
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN108082715A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發明（設計）人: 萬志強
• 申請（專利權）人: 蘇州明強塑料有限公司
• 主分類號: B65D43/06
• 分類號: B65D43/06;B65D53/02
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 彭益波

1.一種密封蓋，其特征在于，包括密封蓋本體，和固定或一體成型于密封蓋本體下表面的密封條，所述密封條的軸線為一閉合曲線。

2.根據權利要求1所述的密封蓋，其特征在于，所述密封條采用熱熔工藝與密封蓋本體固定連接在一起。

3.根據權利要求2所述的密封蓋，其特征在于，所述密封條與其長度方向軸線垂直的橫截面形狀為三角形。

4.根據權利要求3所述的密封蓋，其特征在于，所述三角形的長邊面向密封蓋的邊沿，或面向密封蓋的中心。

5.根據權利要求2所述的密封蓋，其特征在于，所述密封條與其長度方向軸線垂直的橫截面為開設有V形缺口的矩形。

6.根據權利要求2所述的密封蓋，其特征在于，所述密封蓋本體的中心區域向下凸起，并與密封蓋本體的邊沿部分形成一個軸線為閉合曲線的凹槽，所述密封條設置在凹槽中。

7.根據權利要求6所述的密封蓋，其特征在于，所述凹槽靠近密封蓋本體中心區域的側壁，由凹槽底部逐漸向密封蓋本體中心區域傾斜，所述密封條覆蓋在所述側壁上，或同時覆蓋凹槽底部和所述側壁。

8.根據權利要求6所述的密封蓋，其特征在于，所述凹槽靠近密封蓋本體中心區域的側壁的四個等分點中的對側兩個或所有四個處，設有由凹槽底部逐步向密封蓋本體中心區域延伸的弧形凹槽，所述密封條嵌設在這些弧形凹槽中，使得密封條在弧形凹槽處向密封蓋本體中心區域延伸出半圓或近似半圓的延伸部。

9.一種容器，其特征在于，包括容器本體和如權利要求1到8任一所述的密封蓋，所述密封條與容器本體的上沿對應匹配，所述容器本體和密封蓋上還分別設有相互匹配的鎖扣組件，用于將密封蓋與容器本體鎖扣在一起形成一個密封的容器。

10.根據權利要求9所述的密封蓋，其特征在于，所述容器本體的上沿具有傾斜的斜面，其斜面上具有一條以上的凸條或凹槽，或者斜面表面為磨砂處理。