[發(fā)明專利]一種硅基顯示面板及其形成方法以及其曝光工藝的光罩

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711497635.7
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109991817A
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 錢棟;李啟
• 申請（專利權(quán)）人: 上海視涯信息科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L27/32
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31286
• 代理人: 黃海霞

本發(fā)明提供一種硅基顯示面板的形成方法，包括：提供一硅基板，所述硅基板包括顯示區(qū)域和圍繞所述顯示區(qū)域的周邊區(qū)域；提供第一組光罩，所述第一組光罩對應(yīng)所述顯示區(qū)域，在顯示區(qū)域的曝光工藝中使用所述第一組光罩；提供第二組光罩，所述第二組光罩對應(yīng)所述周邊區(qū)域，在周邊區(qū)域的曝光工藝中使用所述第二組光罩；所述顯示區(qū)域的曝光工藝和所述周邊區(qū)域的曝光工藝為不同工藝步驟。本發(fā)明提供的硅基顯示面板的形成方法，不進(jìn)行顯示區(qū)域像素圖形的拼接，從而提高良率及顯示效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅基顯示技術(shù)，尤其涉及一種顯示效果好的硅基顯示面板及其制造方法，還涉及一種硅基顯示面板曝光用的光罩。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的硅基顯示面板，如硅基OLED(Organic Light-EmittingDiode，有機(jī)發(fā)光二極管)顯示面板，以單晶硅芯片為基底，像素尺寸為傳統(tǒng)顯示器件的1/10，精細(xì)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)器件。單晶硅芯片采用現(xiàn)有成熟的集成電路CMOS工藝，不但實(shí)現(xiàn)了顯示屏像素的有源尋址矩陣，還在硅芯片上實(shí)現(xiàn)了如SRAM存儲器、T-CON等多種功能的驅(qū)動控制電路，大大減少了器件的外部連線，增加了可靠性，實(shí)現(xiàn)了輕量化和微型顯示。

但是其顯示面積的大小也受到了限制，現(xiàn)有的硅基OLED顯示面板產(chǎn)品，一般都是在8inch或者12inch的硅芯片制作出來的，而制作過程中所使用的曝光機(jī)的曝光面積小于所使用的硅芯片的尺寸，而真正決定顯示面板尺寸大小的卻恰恰就是這個曝光機(jī)的曝光面積，由于曝光機(jī)曝光面積的限制，導(dǎo)致硅基OLED顯示面板產(chǎn)品的尺寸無法做的更大。現(xiàn)有技術(shù)中有一種技術(shù)手段是使用拼接曝光的方式來實(shí)現(xiàn)大尺寸，如圖1所示，將整個顯示面板通過多個光罩1、2、3、4分別曝光，并且該多個光罩1、2、3、4是按照整個顯示面板的布置，將顯示區(qū)域和顯示區(qū)域進(jìn)行拼接曝光，將周邊電路和周邊電路也進(jìn)行拼接曝光來實(shí)現(xiàn)的。比如圖1中示意出4張光罩1、2、3、4，光罩1包括多個周邊電路圖形1a以及顯示區(qū)域1圖形1b，光罩1上的圖形是對應(yīng)顯示面板左上角部分要形成的結(jié)構(gòu)；同樣，光罩2包括多個周邊電路圖形2a以及顯示區(qū)域2圖形2b，光罩2上的圖形是對應(yīng)顯示面板右上角部分要形成的結(jié)構(gòu)，光罩3包括多個周邊電路圖形3a以及顯示區(qū)域3圖形3b，光罩3上的圖形是對應(yīng)顯示面板左下角部分要形成的結(jié)構(gòu)，光罩4包括多個周邊電路圖形4a以及顯示區(qū)域4圖形4b，光罩4上的圖形是對應(yīng)顯示面板右下角部分要形成的結(jié)構(gòu)。當(dāng)分別使用光罩1、2、3、4完成對面板的曝光后，顯示區(qū)域1、顯示區(qū)域2、顯示區(qū)域3、顯示區(qū)域4拼接在一起形成整個顯示區(qū)域，同樣各周邊電路也要拼接進(jìn)行連接。但是，拼接式曝光很難保證在拼接位置處的對位精準(zhǔn)度，尤其是在分辨率越來越高、布線寬度越來越窄的趨勢下，特別對于顯示區(qū)域更為敏感，比如金屬非同次曝光會帶來亮度差異或者產(chǎn)生灰階過渡的顯示不均等問題，因此工藝難度大、顯示效果差、良率低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種硅基顯示面板的形成方法，其特征在于，提供一硅基板，所述硅基板包括顯示區(qū)域和圍繞所述顯示區(qū)域的周邊區(qū)域；

提供第一組光罩，所述第一組光罩對應(yīng)所述顯示區(qū)域，在顯示區(qū)域的曝光工藝中使用所述第一組光罩；

提供第二組光罩，所述第二組光罩對應(yīng)所述周邊區(qū)域，在周邊區(qū)域的曝光工藝中使用所述第二組光罩；

所述顯示區(qū)域的曝光工藝和所述周邊區(qū)域的曝光工藝為不同工藝步驟。

可選地，所述顯示區(qū)域的面積小于等于曝光機(jī)的有效曝光面積。

可選地，所述周邊區(qū)域包括多個周邊電路，對應(yīng)所述多個周邊電路，所述第二組光罩上設(shè)置有多個周邊電路圖形，所述多個周邊電路圖形緊湊并相互間隔排列。

可選地，利用所述第一組光罩在所述顯示區(qū)域形成第一配線，利用所述第二組光罩在所述周邊區(qū)域形成第二配線，所述第一配線的寬度小于等于第二配線的寬度。

可選地，所述第一配線和所述第二配線電性連接，將顯示區(qū)域的像素單元和所述周邊區(qū)域的電路導(dǎo)通。