[發明專利]一種給水處理裝置及處理方法

在審

• 申請號: 201711496856.2
• 申請日: 2017-12-31
• 公開（公告）號: CN108164038A
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: 孫志民;徐曉然;劉國祥;李魯新;尹文選;叢寶華;周午陽;林芊宏;唐曾輝
• 申請（專利權）人: 廣州市市政工程設計研究總院
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F11/12
• 代理公司: 北京萬貝專利代理事務所(特殊普通合伙) 11520
• 代理人: 陳領

1.一種給水處理裝置，包括預處理模塊、污泥處理模塊、砂濾池、深度處理模塊和清水池，其特征在于，所述預處理模塊與所述砂濾池連接，所述砂濾池與所述深度處理模塊連接，所述深度處理模塊與所述清水池連接；所述預處理模塊、砂濾池和深度處理模塊與污泥處理模塊連接，所述污泥處理模塊通過管道與所述預處理模塊的入口連接；所述預處理模塊、砂濾池、深度處理模塊與污泥處理模塊毗鄰設置，并且所述預處理模塊、砂濾池和深度處理模塊位于所述污泥處理模塊上部，所述預處理模塊、砂濾池和深度處理模塊與污泥處理模塊通過渠道連接。

2.根據權利要求1所述的一種給水處理裝置，其特征在于，所述預處理模塊包括預臭氧接觸池、混合池、絮凝反應池和氣浮沉淀池，所述預臭氧接觸池與混合池相鄰，且在池底部通過連通口連通；所述混合池與所述絮凝反應池相鄰，且在池頂通過聯通渠連通，所述絮凝反應池與所述氣浮沉淀池相鄰，且在池底通過穿孔花墻聯通。

3.根據權利要求2所述的一種給水處理裝置，其特征在于，所述預臭氧接觸池上設置預臭氧投加裝置和尾氣破壞裝置。

4.根據權利要求1所述的一種給水處理裝置，其特征在于，所述氣浮沉淀池包括池體、穿孔花墻、溶氣水釋放器、斜板裝置、氣浮集水管、排渣槽、刮渣機、刮泥機、積泥坑、排泥閥、沉淀出水堰、沉淀出水渠、氣浮出水渠；所述穿孔花墻共設置2個，其中1個設于池體進水端底部側墻，高度為池體高度的1/6，另外1個設于池體出水端斜板裝置的尾部側墻，高度為池體高度的1/2；所述溶氣水釋放器設于池體進水端底部穿孔花墻旁；所述斜板裝置設于池內水面之下，長度為池體長度的2/3，高度為池體高度的1/2；所述氣浮集水管緊貼斜板裝置的底部設置，與氣浮出水渠連接；所述排渣槽設于池體尾部，槽口位于水面上；所述刮渣機設于池體頂部的軌道上，所述刮渣機的底部設置刮板與水面接觸，在運動過程中將水面的浮渣刮至排渣槽；所述刮泥機緊貼池體的底部設置，位于氣浮集水管下部，所述刮泥機的底部設置刮板與所述池底表面接觸，在運動過程中將池底污泥刮至積泥坑；所述排泥閥設于積泥坑底部；所述沉淀出水堰設于池體尾端，與池體尾端的穿孔花墻連接；所述氣浮出水渠與沉淀出水堰相鄰。

5.根據權利要求1所述的一種給水處理裝置，其特征在于，所述深度處理模塊包括主臭氧接觸池、生物活性炭濾池和消毒接觸池，所述所述主臭氧接觸池、生物活性炭濾池、消毒接觸池依次毗鄰且通過連通渠相連。

6.根據權利要求1所述的一種給水處理裝置，其特征在于，所述污泥處理模塊包括反沖洗廢水沉淀池、排渣排泥沉淀池、浮渣脫氣池、污泥濃縮池和污泥儲池；所述反沖洗廢水沉淀池、排渣排泥沉淀池、浮渣脫氣池、污泥濃縮池和污泥儲池依次毗鄰設置且位于氣浮沉淀池下方。

7.一種給水處理方法，基于權利要求1-6任一所述的給水處理裝置，其包括的步驟如下：原水依次流經預臭氧接觸池、混合池、絮凝反應池、氣浮沉淀池、砂濾池、主臭氧接觸池、生物活性炭濾池、消毒接觸池和清水池，其特征在于，

(1)當原水濁度在0～70NTU的較低情況、或藻類含量大于等于6千萬個/L的較高情況時，氣浮沉淀池運行氣浮工藝：絮凝反應池的出水進入氣浮沉淀池，然后與溶氣水釋放器所釋放的溶氣水混合，絮體粘附溶氣水釋放的微小氣泡后上浮至液面形成浮渣，與絮體分離后的清水經由氣浮集水管收集后進入氣浮出水渠，氣浮出水渠的出水再進入砂濾池進行處理；

(2)當原水濁度大于70NTU的較高情況時，氣浮沉淀池切換運行沉淀工藝：絮凝反應池絮凝反應后的水進入氣浮沉淀池，然后流經斜板裝置，絮體在斜板裝置的阻擋下，滑至池底形成積泥，積泥由池底的刮泥機刮至池末端的積泥坑內，積泥坑底部的排泥閥打開，將積泥排至排渣排泥沉淀池；而與絮體分離的清水流經斜板裝置后，流經池末端的穿孔花墻進入沉淀出水堰，再經由沉淀出水堰進入沉淀出水渠，沉淀出水渠的出水再進入砂濾池進行處理。