[發明專利]砷化鎵太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201711491627.1 | 申請日: | 2017-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN108258062B | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 李云;張宇超;馬曉薇;任繼民 | 申請(專利權)人: | 河北英沃泰電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識產權事務所 13120 | 代理人: | 陸林生 |
| 地址: | 050200 河北省*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 砷化鎵 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.砷化鎵太陽能電池,包括外延片,其特征在于:所述外延片的正面設有正面N電極,所述外延片的背面設有背面N電極及背面P電極,且所述背面N電極設有兩組,且分別位于所述背面P電極的兩側,背面N電極的表面與所述背面P電極的表面共面;所述正面N電極與所述背面N電極通過設于所述外延片上的多個通道相連;每個所述通道的內壁上均包覆有絕緣層,每組所述通道內設有用于連通所述正面N電極與所述背面N電極的導電柱;所述背面N電極與所述背面P電極之間設有絕緣隔離帶;所述正面N電極包括分別設于所述外延片正面角點處的多邊形結構,以及連接相鄰兩多邊形結構的長條形結構;所述外延片包括沿襯底向上分別生長緩沖層、底電池、中電池、頂電池、窗口層和N++-InGaAs接觸層,其中頂電池和中電池之間設置有阻隔層、隧道結、窗口層,所述中電池和底電池之間分別設有阻隔層、隧道結;
砷化鎵太陽能電池的制備方法,包括如下步驟:
A.外延片減?。?/p>
B.在外延片的背面制作背面P電極;
C.在外延片上制作通道;
D.制作通道內壁的絕緣層,及制作背面P電極兩側的絕緣隔離帶;
E.使用電鍍方法制作通道內的導電柱,電鍍材料向外延片的背面擴散,形成背面N電極;
F.在外延片的正面制作正面N電極;
其中,步驟A中采用腐蝕或磨片方法將外延片減薄至30-60μm;
步驟B中采用光刻及蒸鍍的方法制作背面P電極;
步驟C中采用光刻及腐蝕的方法制作通道;
步驟D中采用蒸鍍或濺射方法制作通道內壁的絕緣層,及制作背面P電極兩側的絕緣隔離帶;
步驟E中采用電鍍方法制作導電柱及背面N電極,電鍍材料為銅;
G.步驟F中采用光刻及蒸鍍的方法制作正面N電極。
2.如權利要求1所述的砷化鎵太陽能電池,其特征在于:所述通道沿所述外延片的厚度方向設置。
3.如權利要求1所述的砷化鎵太陽能電池,其特征在于:所述正面N電極上設有減反射膜。
4.如權利要求1所述的砷化鎵太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟F之后還包括步驟G:腐蝕外延片的正面。
5.如權利要求4所述的砷化鎵太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述步驟G之后還包括步驟H:在正面N電極上制作減反射膜。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





