[發明專利]一種摻雜離子穩定劑的鈣鈦礦薄膜及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201711491126.3
• 申請日: 2017-12-30
• 公開（公告）號: CN108232014B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 杭州纖納光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/42
• 分類號: H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48
• 代理公司: 杭州奧創知識產權代理有限公司 33272
• 代理人: 楊文華

1.一種摻雜離子穩定劑的鈣鈦礦薄膜的制備方法，其特征在于，在所述鈣鈦礦薄膜內摻雜有離子穩定劑，所述離子穩定劑化學結構通式為R₁-R-R₂，其中，R為烷基，R₁、R₂分別為取代基，R₁為烷基、芳基、羥基、烷氧基、氨基、取代氨基、酯基、酰胺基中的任意一種，R₂為鹵素、含硫基團、含氮基團、含磷基團、含砷基團中的至少一種；所述摻雜離子穩定劑的鈣鈦礦薄膜的制備方法包括如下步驟：

步驟S11、制備鈣鈦礦溶液；

步驟S12、在所述鈣鈦礦溶液中添加離子穩定劑，70℃加熱攪拌2h，得到鈣鈦礦穩定劑混合液；

步驟S13、通過旋涂、刮涂、狹縫式連續涂布或噴涂中任意一種加工方式將該鈣鈦礦穩定劑混合液涂覆在沉積有傳輸層的基片上形成一層含有鈣鈦礦穩定劑混合液的薄膜層，并對該薄膜層進行退火處理得到摻雜離子穩定劑的鈣鈦礦薄膜層；

在步驟S11中，所述鈣鈦礦溶液中混合有含有至少一種二價金屬鹵化物前驅物BX₂的溶液、含有至少一種反應物AX的溶液以及有機溶劑，B為二價金屬陽離子：鉛、錫、鎢、銅、鋅、鎵、鍺、砷、硒、銠、鈀、銀、鎘、銦、銻、鋨、銥、鉑、金、汞、鉈、鉍、釙中的任意一種陽離子，X為碘、溴、氯、砹、硫氰根、醋酸根中的至少任意一種陰離子，A為銫、銣、胺基、脒基或者堿族中的至少任意一種，所述有機溶劑包括主溶劑及溶劑添加劑，所述主溶劑為可溶解金屬鹵化物的酰胺類溶劑、砜類/亞砜類溶劑、酯類溶劑、烴類、鹵代烴類溶劑、醇類溶劑、酮類溶劑、醚類溶劑、芳香烴溶劑中的任意一種，所述溶劑添加劑為酰胺類溶劑、砜類/亞砜類溶劑、酯類溶劑、烴類、鹵代烴類溶劑、醇類溶劑、酮類溶劑、醚類溶劑、芳香烴中的至少任意一種；在所述鈣鈦礦溶液中，前驅物BX₂溶液的濃度為0.5~2mol/L，反應物AX加入量是前驅物BX₂摩爾量的0~100%，溶劑添加劑與前驅物BX₂的摩爾比為0~300%；

在步驟S12中，所述離子穩定劑的摻入量是前驅物BX₂摩爾量的0.01~20%。