[發(fā)明專利]一種摻雜離子穩(wěn)定劑的鈣鈦礦薄膜及其制備方法和應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711491126.3
• 申請日: 2017-12-30
• 公開（公告）號: CN108232014B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州纖納光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/42
• 分類號: H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48
• 代理公司: 杭州奧創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33272
• 代理人: 楊文華

1.一種摻雜離子穩(wěn)定劑的鈣鈦礦薄膜的制備方法，其特征在于，在所述鈣鈦礦薄膜內(nèi)摻雜有離子穩(wěn)定劑，所述離子穩(wěn)定劑化學結(jié)構(gòu)通式為R₁-R-R₂，其中，R為烷基，R₁、R₂分別為取代基，R₁為烷基、芳基、羥基、烷氧基、氨基、取代氨基、酯基、酰胺基中的任意一種，R₂為鹵素、含硫基團、含氮基團、含磷基團、含砷基團中的至少一種；所述摻雜離子穩(wěn)定劑的鈣鈦礦薄膜的制備方法包括如下步驟：

步驟S11、制備鈣鈦礦溶液；

步驟S12、在所述鈣鈦礦溶液中添加離子穩(wěn)定劑，70℃加熱攪拌2h，得到鈣鈦礦穩(wěn)定劑混合液；

步驟S13、通過旋涂、刮涂、狹縫式連續(xù)涂布或噴涂中任意一種加工方式將該鈣鈦礦穩(wěn)定劑混合液涂覆在沉積有傳輸層的基片上形成一層含有鈣鈦礦穩(wěn)定劑混合液的薄膜層，并對該薄膜層進行退火處理得到摻雜離子穩(wěn)定劑的鈣鈦礦薄膜層；

在步驟S11中，所述鈣鈦礦溶液中混合有含有至少一種二價金屬鹵化物前驅(qū)物BX₂的溶液、含有至少一種反應(yīng)物AX的溶液以及有機溶劑，B為二價金屬陽離子：鉛、錫、鎢、銅、鋅、鎵、鍺、砷、硒、銠、鈀、銀、鎘、銦、銻、鋨、銥、鉑、金、汞、鉈、鉍、釙中的任意一種陽離子，X為碘、溴、氯、砹、硫氰根、醋酸根中的至少任意一種陰離子，A為銫、銣、胺基、脒基或者堿族中的至少任意一種，所述有機溶劑包括主溶劑及溶劑添加劑，所述主溶劑為可溶解金屬鹵化物的酰胺類溶劑、砜類/亞砜類溶劑、酯類溶劑、烴類、鹵代烴類溶劑、醇類溶劑、酮類溶劑、醚類溶劑、芳香烴溶劑中的任意一種，所述溶劑添加劑為酰胺類溶劑、砜類/亞砜類溶劑、酯類溶劑、烴類、鹵代烴類溶劑、醇類溶劑、酮類溶劑、醚類溶劑、芳香烴中的至少任意一種；在所述鈣鈦礦溶液中，前驅(qū)物BX₂溶液的濃度為0.5~2mol/L，反應(yīng)物AX加入量是前驅(qū)物BX₂摩爾量的0~100%，溶劑添加劑與前驅(qū)物BX₂的摩爾比為0~300%；

在步驟S12中，所述離子穩(wěn)定劑的摻入量是前驅(qū)物BX₂摩爾量的0.01~20%。