[發(fā)明專利]等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)及其工作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711490627.X | 申請日: | 2017-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN108152358A | 公開(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 俞曉峰;韓雙來;梁炎;徐岳 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州譜育科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62;G01N27/64;H01J49/04;H01J49/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310052 浙江省杭州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子偏轉(zhuǎn) 等離子體 質(zhì)譜分析系統(tǒng) 離子 取樣錐 出射 閥門 矩管 閥門設(shè)置 質(zhì)譜分析儀 單元偏轉(zhuǎn) 偏轉(zhuǎn)單元 豎直向上 真空單元 粒子 檢測 出口 | ||
1.一種等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng),所述等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)包括質(zhì)譜分析儀;其特征在于:所述等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)進一步包括:
矩管,所述矩管的出口豎直向上;
取樣錐,所述取樣錐設(shè)置在所述矩管的離子出射方向上;
第一閥門,所述第一閥門設(shè)置在所述離子出射方向上,且處于所述取樣錐的下游;
離子偏轉(zhuǎn)單元,所述粒子偏轉(zhuǎn)單元設(shè)置在離子出射方向上,且處于第一閥門的下游,經(jīng)過所述離子偏轉(zhuǎn)單元后,離子偏轉(zhuǎn)角度α;
第二閥門,所述第二閥門設(shè)置在經(jīng)過所述離子偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)后的離子方向上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng),其特征在于:所述第一閥門和/或第二閥門采用滑動閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng),其特征在于:所述取樣錐包括依次設(shè)置的第一取樣錐和第二取樣錐。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng),其特征在于:角度
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng),其特征在于:所述離子偏轉(zhuǎn)單元采用偏轉(zhuǎn)電場。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的等離子體-質(zhì)譜分析系統(tǒng)的工作方法,所述工作方法為:
(A1)在所述聚光點燃等離子體且移動到設(shè)定位置后,所述第一閥門打開;
離子和中性粒子從所述矩管出射并豎直向上運動,依次穿過所述取樣錐和第一閥門后進入所述粒子偏轉(zhuǎn)單元,離子在所述離子偏轉(zhuǎn)單元內(nèi)發(fā)生偏轉(zhuǎn),所述中性粒子按照原運動方向繼續(xù)向上運動;
(A2)在離子接口真空達到設(shè)定后,再打開所述第二閥門;
偏轉(zhuǎn)后的離子穿過所述第二閥門,進入下游;
(A3)矩管關(guān)閉,所述第一閥門和第二閥門關(guān)閉。
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