[發明專利]復合量子點、量子點固態膜及其應用

在審

• 申請號: 201711482034.9
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109994655A
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 程陸玲;楊一行
• 申請（專利權）人: TCL集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54;B82Y30/00
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 黃志云

1.一種復合量子點的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將鹵化物AMX_m+1分散在極性溶劑中，得到鹵化物陰離子修飾劑，所述鹵化物AMX_m+1為具有鈣鈦礦結構的鹵化物，所述鹵化物陰離子修飾劑為[AMX_m+n+1]^n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，A為CH₃NH₃，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子修飾劑的價數，且m為2或3，當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2；所述極性溶劑為能夠使所述鹵化物電離形成鹵化物陰離子和鹵化物陽離子的有機溶劑；

提供表面含有油溶性配體的量子點，將所述量子點與所述鹵化物陰離子修飾劑混合處理，所述鹵化物陰離子修飾劑與所述量子點表面的配體發生交換反應，制備得到鹵化物陰離子修飾劑修飾的量子點。

2.如權利要求1所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述極性溶劑的施主數為10-50。

3.如權利要求2所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述有機溶劑選自甲基甲酰胺、丙烯碳酸酯、二甲基甲酰胺、乙腈、二甲基亞砜、甲醇、乙醇、丙醇中的至少一種。

4.如權利要求1-3任一項所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，將所述量子點與所述鹵化物陰離子修飾劑混合處理的步驟中，按照所述量子點和所述鹵化物陰離子修飾劑的質量摩爾比為100mg：(0.2～1mmol)的比例混合處理。

5.如權利要求1-3任一項所述的復合量子點的制備方法，其特征在于，所述油溶性配體選自油酸、油胺、三辛基磷、三辛基氧磷中的至少一種。

6.一種復合量子點，其特征在于，所述復合量子點為鹵化物陰離子修飾劑修飾的量子點，包括量子點顆粒，以及結合在所述量子點顆粒表面的鹵化物陰離子修飾劑，所述鹵化物陰離子修飾劑為[AMX_m+n+1]^n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，A為CH₃NH₃，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子修飾劑的價數，且m為2或3，當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2，所述[AMX_m+n+1]^n-具有鈣鈦礦結構。

7.一種量子點固態膜，其特征在于，所述量子點固態膜含有權利要求6所述的復合量子點。

8.如權利要求7所述的量子點固態膜，其特征在于，所述量子點固態膜的厚度為5-60nm。

9.一種量子點固態膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供復合量子點的分散液，所述復合量子點的分散液中，復合量子點為權利要求6所述的復合量子點；

在基板上沉積所述復合量子點的分散液，退火處理，得到量子點固態膜。

10.一種發光器件，其特征在于，包括陽極和陰極，以及設置在所述陽極和所述陰極之間的量子點發光層，所述量子點發光層含有復合量子點，所述復合量子點為鹵化物陰離子修飾劑修飾的量子點，包括量子點顆粒，以及結合在所述量子點顆粒表面的鹵化物陰離子修飾劑，所述鹵化物陰離子修飾劑為[AMX_m+n+1]^n-，其中，M選自Pb、Cd、Zn、In、Fe、Sb中的一種，X選自Cl、Br、I中的一種，A為CH₃NH₃，m為M的化合價數，n為所述鹵化物陰離子修飾劑的價數，且m為2或3，當m為2時，n為1；當m為3時，n為1或2；所述[AMX_m+n+1]^n-具有鈣鈦礦結構。