[發(fā)明專利]離型膜及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711481245.0
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109988329A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顏振鋒;蘇賜祥;向首睿;吳佩蓉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臻鼎科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C08J7/04
• 分類號(hào): C08J7/04;C08L67/02;C08L27/18;C08L79/08
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞;唐芳芳

本發(fā)明涉及一種離型膜。所述離型膜包括一基板及一離型層，所述基板包括相背設(shè)置的一上表面及一下表面，所述離型層設(shè)置在所述上表面上，所述離型層表面具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還涉及一種所述離型膜的制作方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及離型膜及其制作領(lǐng)域，尤其涉及一種低光澤度離型膜及其制作方法。

背景技術(shù)

離型膜是指表面具有分離性的薄膜。現(xiàn)有的離型膜一般通過(guò)在聚酯薄膜(PET)等材料表面涂布離型劑形成。市面上用于紫外線固化的PET離型膜主要為亮面(光滑面)，其光澤度通常為90GU～110GU，感光樹(shù)脂轉(zhuǎn)印后成品的外觀也是亮面，如果想要成品表面達(dá)到低光澤的效果，通常需要使用啞光膜進(jìn)行熱壓，將啞光膜的粗糙結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印至感光樹(shù)脂表面，制程較為復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一種克服上述問(wèn)題的離型膜的制作方法。

一種離型膜的制作方法，包括步驟：

提供一基板，所述基板包括相背設(shè)置的一上表面及一下表面，所述上表面為一粗糙面，所述粗糙面通過(guò)在滾輪上涂布熔融狀態(tài)的基板材料而制得；

在所述上表面上制作形成一離型層，所述離型層包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)。

一種離型膜，其包括一基板及一離型層，所述基板包括相背設(shè)置的一上表面及一下表面，所述離型層設(shè)置在所述上表面上，所述離型層表面具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明通過(guò)制作單面為粗糙結(jié)構(gòu)的離型膜，后續(xù)可直接將感光樹(shù)脂涂布或壓覆于離型膜的粗糙面，經(jīng)轉(zhuǎn)印及紫外光固化后，使感光樹(shù)脂擁有粗糙結(jié)構(gòu)而形成低光澤度表面。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的基板的剖面示意圖。

圖2是圖1中的基板上表面經(jīng)過(guò)粗糙化處理后的剖面示意圖。

圖3是圖2中的基板上表面涂布離型劑時(shí)的剖面示意圖。

圖4是圖3中的基板上表面形成離型層后的剖面示意圖。

圖5是本發(fā)明第二實(shí)施方式提供的在滾輪上軋制基板的剖面示意圖。

圖6是圖5中的基板軋制成型后的剖面示意圖。

圖7是圖6中的基板上表面涂布離型劑時(shí)的剖面示意圖。

圖8是圖7中的基板上表面形成離型層后的剖面示意圖。

圖9是本發(fā)明第三實(shí)施方式提供的基板的剖面示意圖。

圖10是圖9中的基板上表面涂布軋制離型層時(shí)的剖面示意圖。

圖11是圖10中的基板上表面涂布軋制離型層后的剖面示意圖。

圖12是本發(fā)明第四實(shí)施方式提供的基板的剖面示意圖。

圖13是圖12中的基板上表面涂布軋制離型層時(shí)的剖面示意圖。

圖14是圖13中的基板上表面涂布軋制離型層后的剖面示意圖。

圖15是本發(fā)明實(shí)施方式提供的貼覆有感光樹(shù)脂層的離型膜及銅箔基板的剖面示意圖。

圖16是圖15中的貼覆有感光樹(shù)脂層的離型膜壓覆在銅箔基板表面后的剖面示意圖。

圖17是是圖16中的貼覆有感光樹(shù)脂層的離型膜曝光后的剖面示意圖。

圖18是圖17中的貼覆有感光樹(shù)脂層的離型膜顯影后的剖面示意圖。

主要元件符號(hào)說(shuō)明

離型膜 100、200、300、400、600