[發明專利]增亮膜制造方法、背光模組、平板顯示器和電子裝置

在審

• 申請號: 201711481017.3
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109991693A
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 邢其彬;晏水平;楊政憲
• 申請（專利權）人: 深圳市聚飛光學材料有限公司
• 主分類號: G02B5/04
• 分類號: G02B5/04;G02B5/02
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 江婷;李發兵

1.一種增亮膜制造方法，其特征在于，包括：

提供一壓輥；

提供一基材，所述基材包括待滾壓面以及與所述待滾壓面相對的粗糙底面；

加熱所述基材，并利用所述壓輥滾壓所述待滾壓面；在所述粗糙底面上利用粗糙化處理方法形成至少一層第一粗糙面；

或者，在所述粗糙底面上利用粗糙化處理方法形成至少一層第一粗糙面；加熱所述基材，并利用所述壓輥滾壓所述待滾壓面。

2.如權利要求1所述的增亮膜制造方法，其特征在于，所述壓輥具有棱鏡結構表面，所述棱鏡結構表面被利用粗糙面形成方法制成第二粗糙面。

3.如權利要求2所述的增亮膜制造方法，其特征在于，所述棱鏡結構表面被利用所述粗糙面形成方法設置有多個凸點和/或凹點，以形成所述第二粗糙面。

4.如權利要求2所述的增亮膜制造方法，其特征在于，所述粗糙面形成方法包括：鐳射、噴砂、蝕刻、電鍍和涂布方式中的至少一種。

5.如權利要求1-4任一項所述的增亮膜制造方法，其特征在于，所述第一粗糙面的層數為一層，所述在所述粗糙底面上利用粗糙化處理方法形成至少一層第一粗糙面包括：

在所述粗糙底面利用粗糙化處理方法設置多個凸點和/或凹點，以形成第一粗糙面。

6.如權利要求5所述的增亮膜制造方法，其特征在于，所述粗糙底面的霧度范圍是2％-50％，所述第一粗糙面的霧度范圍是10％-80％，所述粗糙底面和所述第一粗糙面組成的表面的霧度范圍是10％-60％。

7.如權利要求1-4任一項所述增亮膜制造方法，其特征在于，所述粗糙化處理方法包括：鐳射、噴砂、蝕刻、電鍍、涂布中的至少一種。

8.一種背光模組，其特征在于，包括如權利要求1-7任一項所述的增亮膜制造方法所制造的增亮膜。

9.一種平板顯示器，包括：如權利要求8所述的背光模組。

10.一種電子裝置，包括：控制電子元件和如權利要求9所述的平板顯示器，所述控制電子元件將圖像數據導向所述平板顯示器以根據所述圖像數據而呈現圖像。