[發明專利]一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件

在審

• 申請號: 201711480903.4
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109994220A
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 王明旭;蔡立君;劉雨祥;徐紅兵;盧勇;袁應龍;劉容利;甘明楊;郭凱飛;王波;馬靜;王英翹;李波;孫繼武;閻佐鍵;董毅
• 申請（專利權）人: 核工業西南物理研究院;沈陽慧宇真空技術有限公司
• 主分類號: G21B1/11
• 分類號: G21B1/11
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 汝小龍

1.一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件，其特征在于，該貫穿件包括：第一層電絕緣約束結構，第二層電絕緣約束結構，ITER法蘭組件和隔板；

所述第一層電絕緣約束結構同心設置在第二層電絕緣約束結構內形成電絕緣約束結構，第一層電絕緣約束結構與第二層電絕緣約束結構形成絕緣腔；

所述隔板中心加工有通孔，所述第一層電絕緣約束結構和第二層電絕緣約束結構左端設置在隔板上；

ITER法蘭組件包括ITER法蘭和ITER法蘭緊固螺栓；

所述ITER法蘭為圓盤結構，ITER法蘭中心加工有通孔，第一層電絕緣約束結構與第二層電絕緣約束結構左端焊接在ITER法蘭右側面上；

所述ITER法蘭上加工有多個螺栓孔，ITER法蘭通過ITER法蘭緊固螺栓安裝在約束壁壘CP法蘭真空側；

所述隔板中心加工有通孔，所述帶電水管從右向左依次穿過CP法蘭中心孔、ITER法蘭中心通孔、第一層電絕緣約束結構和隔板中心通孔伸入真空側。

2.根據權利要求1所述的一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件，其特征在于，所述第一層電絕緣約束結構包括第一金屬環，第一陶瓷管，第二金屬環，內過渡環，內波紋管和內法蘭管；

所述第一陶瓷管右端通過第二金屬環與內過渡環連接，內過渡環通過內波紋管與內法蘭管連接；

所述第一陶瓷管，第二金屬環，內過渡環，內波紋管和內法蘭管同心連通；

所述第一陶瓷管左端通過第一金屬環與隔板封裝；

所述第一陶瓷管通過無氧銅真空釬焊技術或氫爐釬焊技術與第一金屬環和第二金屬環封裝。

3.根據權利要求2所述的一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件，其特征在于，所述第二層電絕緣約束結構包括第三金屬環，第二陶瓷管，第四金屬環，外過渡環，外波紋管和外法蘭管；

所述第二陶瓷管右端通過第四金屬環與外過渡環連接，外過渡環通過外波紋管與外法蘭管連接；

所述第二陶瓷管，第四金屬環，外過渡環，外波紋管和外法蘭管同心連通；

所述第二陶瓷管左端通過第三金屬環與隔板封裝；

所述第二陶瓷管通過無氧銅真空釬焊技術或氫爐釬焊技術與第三金屬環和第四金屬環封裝。

4.根據權利要求3所述的一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件，其特征在于，該貫穿件還包括支撐定位盤，支撐定位框架，端板，周向定位鍵，絕緣陶瓷件，第三陶瓷管，銷，彈簧墊片組和對剖管；

所述對剖管為圓柱筒狀結構，所述電絕緣約束結構設置在對剖管內，對剖管右端焊接在外法蘭管外壁上；

所述對剖管左端面中心加工有通孔，帶電水管穿過對剖管右端面中心通孔伸出；

所述支撐定位框架為圓柱管結構，支撐定位框架設置在對剖管左端面外部上形成腔體，端板蓋合在支撐定位框架左端；

所述支撐定位盤為圓盤結構，支撐定位盤中心加工有通孔，通孔周圍對稱加工有銷孔，銷孔內設置第三陶瓷管，所述支撐定位盤設置在支撐定位框架與對剖管左端面外部形成的腔體內，銷設置在第三陶瓷管，將支撐定位框架與對剖管左端面外部形成的腔體內；

所述支撐定位框架與對剖管左端面外部之間設置彈簧墊片組，彈簧墊片組套在銷上；所述支撐定位盤與支撐定位框架內表面之間設置絕緣陶瓷件，所述支撐定位盤圓環面上沿軸向加工有鍵槽，周向定位鍵設置在支撐定位盤圓環面上的鍵槽內防止支撐定位盤轉動；

所述帶電水管穿過支撐定位框架、支撐定位盤伸入真空側。

5.根據權利要求4所述的一種用于聚變堆真空側的雙層帶電水路貫穿件，其特征在于，所述對剖管左端面加工有第一通氣孔，第一通氣孔將支撐定位框架和對剖管左端面外部形成的腔體，與對剖管內腔導通；所述對剖管圓柱面上加工有第二通氣孔，第二通氣孔將對剖管內腔與真空側導通。