[發(fā)明專利]一種等離子處理系統(tǒng)和等離子處理系統(tǒng)的運行方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711480475.5 | 申請日： | 2017-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN109994358B | 公開（公告）日： | 2021-04-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 雷仲禮;王謙 | 申請（專利權(quán)）人： | 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 等離子 處理 系統(tǒng) 運行 方法 | ||
1.一種等離子處理系統(tǒng)，包括：
一傳輸腔，傳輸腔包括多個側(cè)壁，每個側(cè)壁上都連接有多個處理腔，傳輸腔側(cè)壁和每個處理腔之間還包括一個氣密閥門；
每個處理腔內(nèi)包括一個支撐臺，用于放置基片，所述支撐臺上包括一個中心點，與放置在支撐臺上的基片的中心點位置對應(yīng)；
其中連接到同一個側(cè)壁的至少兩個處理腔構(gòu)成一個處理腔組，其中第一處理腔組中兩個支撐臺的中心點之間具有第一距離，第二處理腔組中的兩個支撐臺的中心點之間具有第二距離，其中第一距離大于第二距離；
所述第一處理腔組的兩個處理腔之間還包括至少一個真空鎖腔，且所述兩個處理腔和真空鎖腔均連接到同一個傳輸腔側(cè)壁；
所述傳輸腔中包括一個機械傳輸裝置，所述機械傳輸裝置包括一個可沿著一個中心旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的基座，所述中心旋轉(zhuǎn)軸位于機械傳輸裝置的中心點，基座上包括兩個可獨立運動的機械臂，所述兩個機械臂對稱安裝在所述旋轉(zhuǎn)基座中心旋轉(zhuǎn)軸兩側(cè)；且所述兩個機械臂均包括多個旋轉(zhuǎn)軸和多個旋轉(zhuǎn)臂，其中每個機械臂最上方的旋轉(zhuǎn)臂的遠(yuǎn)端還包括一個終端抓取器，用于抓取基片。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，所述每個機械臂最上方的旋轉(zhuǎn)臂包括近端部分和遠(yuǎn)端部分，一彎折部位于所述遠(yuǎn)端部分和近端部分之間，所述兩個機械臂中位于最上方的旋轉(zhuǎn)臂的遠(yuǎn)端部分互相平行且上下重疊，所述遠(yuǎn)端部分覆蓋所述機械傳輸裝置的中心點。
3.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，所述每個機械臂包括至少三個旋轉(zhuǎn)臂和三個機械臂旋轉(zhuǎn)軸，所述機械臂旋轉(zhuǎn)軸能夠驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)臂旋轉(zhuǎn)，且每個機械臂中至少一個旋轉(zhuǎn)軸能夠上下移動。
4.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一和第二處理腔組中的每個處理腔都包括一個通道，使得基片沿著所述通道到達各個處理腔，所述基片中心點沿著所述通道運行形成的軌跡與所述傳輸腔側(cè)壁形成的夾角小于90度。
5.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一處理腔組的兩個處理腔之間包括兩個真空鎖腔，第一真空鎖疊放在第二真空鎖上方。
6.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括第三處理腔組，第三處理腔組中兩個支撐臺的中心點之間具有第三距離。
7.如權(quán)利要求4所述的等離子處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一處理腔組的兩個處理腔中包括第一組通道，基片沿所述第一組通道運行，基片中心點在運行過程中形成的軌跡與傳輸腔側(cè)壁具有第一夾角θ1；
所述第二處理腔組的兩個處理腔中包括第二組通道，基片沿所述第二組通道運行，基片中心點在運行過程中形成的軌跡與傳輸腔側(cè)壁具有第一夾角θ2；其中θ1小于θ2。
8.如權(quán)利要求1所述的等離子處理系統(tǒng)的運行方法，其特征在于，所述第一和第二機械臂分別將第一和第二基片移動到傳輸腔中的第一位置和第二位置，所述第一位置和第二位置均位于到所述機械傳輸裝置的中心旋轉(zhuǎn)軸距離為R1的圓上，同時所述第一位置和第二位置之間具有D1的距離，第一和第二基片到達所述第一位置和第二位置后，驅(qū)動所述第一和第二機械臂將第一和第二基片送入第一處理腔組的兩個處理腔。
9.如權(quán)利要求8所述的等離子處理系統(tǒng)的運行方法，其特征在于，所述第一和第二機械臂分別將第三和第四基片移動到傳輸腔中的第三位置和第四位置，所述第三位置和第四位置均位于到所述機械傳輸裝置的中心旋轉(zhuǎn)軸距離為R2的圓上，同時所述第三位置和第四位置之間具有D2的距離，第三和第四基片到達所述第三位置和第四位置后，驅(qū)動所述第一和第二機械臂將第三和第四基片送入第二處理腔組的兩個處理腔，所述R1大于R2，D1大于D2。
10.如權(quán)利要求9所述的等離子處理系統(tǒng)的運行方法，其特征在于，所述第一處理腔組中的兩個處理腔用于執(zhí)行第一處理工藝，第二處理腔組中的處理腔用于執(zhí)行第二處理工藝。
11.如權(quán)利要求10所述的等離子處理系統(tǒng)的運行方法，其特征在于，所述第一和第二機械臂分別將兩片基片移動到傳輸腔中的上下相疊的同一位置作為啟動位置，第一和第二基片到達所述啟動位置后，驅(qū)動所述第一和第二機械臂將第一和第二基片分別送入兩個真空鎖腔。
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