[發明專利]一種薄膜及其制備方法、應用

有效

• 申請號: 201711479664.0
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109994650B
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發明（設計）人: 劉佳;曹蔚然
• 申請（專利權）人: 深圳TCL工業研究院有限公司
• 主分類號: H01L51/54
• 分類號: H01L51/54;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 官建紅

1.一種用于發光器件的薄膜，其特征在于，所述薄膜的材料為氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物。

2.如權利要求1所述的薄膜，其特征在于，所述氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物的分子式為{(NH₂)_mTNCQ}{TMB}_n，其中，m為1-4的自然數；n為1-2的自然數。

3.如權利要求2所述的薄膜，其特征在于，所述薄膜的厚度為10-40nm。

4.一種用于發光器件的薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供氨基化四氰基醌二甲烷溶液和四甲基聯苯胺溶液；

按所述氨基化四氰基醌二甲烷與所述四甲基聯苯胺的摩爾比為1：(1-2)將所述氨基化四氰基醌二甲烷溶液和所述四甲基聯苯胺溶液混合得到混合溶液，將所述混合溶液沉積到基板上經退火處理得到氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物薄膜。

5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述退火處理的溫度為80-120℃，所述退火處理的時間為15min。

6.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述氨基化四氰基醌二甲烷溶液濃度為0.001-0.003mol/L；和/或所述四甲基聯苯胺溶液的濃度為0.001-0.003mol/L。

7.一種發光器件，其特征在于，所述發光器件包括陽極和陰極，以及設置在所述陽極和陰極之間的疊層，所述疊層由修飾層和空穴功能層層疊形成，所述修飾層層疊結合在所述陽極上，所述修飾層材料為氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物。

8.如權利要求7所述的發光器件，其特征在于，所述氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物的分子式為{(NH₂)_mTNCQ}{TMB}_n，其中，m為1-4的自然數；n為1-2的自然數。

9.如權利要求7所述的發光器件，其特征在于，所述修飾層的厚度為10-40nm。

10.一種發光器件的制備方法，其特征在于，包括步驟：

提供基板，所述基板上設置有陽極；

提供氨基化四氰基醌二甲烷溶液和四甲基聯苯胺溶液；

按所述氨基化四氰基醌二甲烷與所述四甲基聯苯胺的摩爾比為1：(1-2)將所述氨基化四氰基醌二甲烷溶液和所述四甲基聯苯胺溶液混合得到混合溶液，將所述混合溶液沉積到陽極上經退火處理得到氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基聯苯胺的配合物溶液，得到層疊結合在所述陽極上的修飾層。