[發(fā)明專利]一種溫敏型薄膜及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711479358.7
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN107987300B
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓景賓;王嘉杰;許曉芝;董思源;衛(wèi)敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京化工大學(xué)
• 主分類號(hào): C08J7/04
• 分類號(hào): C08J7/04;C08L23/12;C08L29/10;C08L33/24
• 代理公司: 11569 北京高沃律師事務(wù)所
• 代理人: 劉奇

1.一種溫敏型薄膜，包括基底和阻氣層，所述阻氣層包括交替層疊的水滑石納米片層和溫敏聚合物層；所述阻氣層中的水滑石納米片層與基底相接；所述溫敏型薄膜的最外層為溫敏聚合物層；

所述溫敏聚合物層由聚合物構(gòu)成，所述聚合物包括聚N-乙烯基內(nèi)酯、聚-羥基丙基甲基丙烯酰胺、聚乙烯甲醚或N-異丙基丙烯酰胺；

所述基底的材質(zhì)為聚乙烯、聚丙烯或聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯；所述基底的厚度為0.2～0.3mm。

2.如權(quán)利要求1所述的溫敏型薄膜，其特征在于，所述溫敏型薄膜在收縮態(tài)時(shí)的厚度為6.5～10μm，所述溫敏型薄膜在擴(kuò)張態(tài)時(shí)的厚度為18～23μm。

3.如權(quán)利要求1或2所述的溫敏型薄膜，其特征在于，所述溫敏聚合物層在收縮態(tài)時(shí)的厚度為200～500nm，所述溫敏聚合物層在擴(kuò)張態(tài)時(shí)的厚度為800～1300nm。

4.如權(quán)利要求1或2所述的溫敏型薄膜，其特征在于，所述水滑石納米片層由水滑石納米片以平行于基底的方式層疊形成；所述水滑石納米片層的厚度為50～200nm，所述水滑石納米片的長(zhǎng)徑比為20～200。

5.權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述溫敏型薄膜的制備方法，包括:

提供水滑石納米片水分散液和溫敏聚合物水分散液；

將所述水滑石納米片水分散液和溫敏聚合物水分散液交替旋涂于基底上，得到復(fù)合薄膜；

將所述復(fù)合薄膜進(jìn)行干燥，得到溫敏型薄膜；

所述干燥為自然干燥。

6.如權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述水滑石納米片水分散液的質(zhì)量濃度為0.3～0.6％；所述溫敏聚合物水分散液的質(zhì)量濃度為3～5％。

7.如權(quán)利要求5或6所述的制備方法，其特征在于，所述水滑石納米片的制備方法包括：

將M²⁺、M³⁺與尿素按照2.5～3：1：1的摩爾比混合，得到原料混合液，所述M²⁺包括Mg²⁺、Zn²⁺或Ni²⁺，所述M³⁺包括Fe³⁺、Al³⁺或Co³⁺；

將所述原料混合液進(jìn)行晶化反應(yīng)，得到固液混合物；

將所述固液混合物依次進(jìn)行冷卻、分離、洗滌和干燥，得到水滑石納米片。

8.如權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述晶化反應(yīng)的溫度為100～120℃，晶化反應(yīng)的時(shí)間為20～30h。